主要從事寬禁帶半導(dǎo)體氮化物單晶材料的生長(zhǎng)、加工和性能研究,以及SEM、EDS和背散射電子衍射(EBSD)測(cè)試技術(shù)的研究工作,特別是在GaN晶體材料領(lǐng)域取得了一系列原創(chuàng)性成果。提出了一種通過晶體取向數(shù)據(jù)分析單晶應(yīng)力的方法,拓展了EBSD在化合物半導(dǎo)體晶體材料的結(jié)構(gòu)、缺陷和應(yīng)力分析領(lǐng)域的應(yīng)用;設(shè)計(jì)了多種新型緩沖襯底實(shí)現(xiàn)了GaN單晶中缺陷和應(yīng)力的控制,掌握了高質(zhì)量GaN單晶生長(zhǎng)關(guān)鍵技術(shù),主持國(guó)家級(jí)項(xiàng)目1項(xiàng),參與國(guó)家和省級(jí)項(xiàng)目5項(xiàng),2019年獲山東省重點(diǎn)扶持區(qū)域引進(jìn)急需緊缺人才項(xiàng)目支持。發(fā)表SCI收錄學(xué)術(shù)論文70余篇,其中第一作者或通訊作者的SCI收錄論文13篇。解決了相關(guān)技術(shù)從實(shí)驗(yàn)室走向企業(yè)的關(guān)鍵問題,提高了GaN單晶生長(zhǎng)與襯底加工的技術(shù)成熟度,作為主要骨干成員在GaN單晶襯底技術(shù)實(shí)現(xiàn)產(chǎn)業(yè)轉(zhuǎn)化過程中起到重要作用。 |