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樹脂研磨分散機 樹脂改進型膠體磨,水性樹脂研磨乳化機
樹脂研磨分散機 樹脂改進型膠體磨,水性樹脂研磨乳化機

參考價格

5-10萬元

型號

CMD2000

品牌

IKN

產(chǎn)地

德國

樣本

暫無
上海依肯機械設(shè)備有限公司

金牌會員

|

第14年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 能耗:

    0-40
  • 處理量:

    300-40000
  • 物料類型:

    其它
  • 工作原理:

    立式
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樹脂研磨分散機 樹脂改進型膠體磨,水性樹脂研磨乳化機,納米級樹脂研磨分散機 ,納米研磨分散機 ,高剪切研磨分散機,德國進口高速研磨分散機

 

   樹脂通常是指受熱后有軟化或熔融范圍,軟化時在外力作用下有流動傾向,常溫下是固態(tài)、半固態(tài),有時也可以是液態(tài)的有機聚合物。廣義地講,可以作為塑料制品加工原料的任何高分子化合物都稱為樹脂。樹脂是制造塑料的主要原料,也用來制涂料(是涂料的主要成膜物質(zhì),:醇酸樹脂、丙烯酸樹脂、合成脂肪酸樹脂,該類樹脂于長三角及珠三角居多,也是涂料業(yè)相對旺盛的地區(qū),如長興化學、紐佩斯樹脂、三盈樹脂、帝斯曼先達樹脂等)、黏合劑、絕緣材料等,合成樹脂在工業(yè)生產(chǎn)中,被廣泛應用于液體中雜質(zhì)的分離和純化,有大孔吸附樹脂、離子交換樹脂、以及一些專用樹脂。

   

納米級無機鹽分散于液相體系一直都是化工行業(yè)的一個重大難題,特別是當液相的粘度比較大,很難攪拌的情況下;無機鹽類的顆粒細度達到納米級,在分散的過程中經(jīng)常會出現(xiàn)兩方面的問題:一是分散不均勻,例如顏料分散時經(jīng)常會產(chǎn)生色差、色線、浮色等;二是超細顆粒抱團,原始顆粒較細,分散后的粒徑卻增加了數(shù)倍,甚至數(shù)十倍。很多行業(yè)采用國產(chǎn)砂磨機進行長時間的研磨,期望能達到效果,往往事與愿違,且浪費了大量的時間、人力、物力成本。進口砂磨機雖然效果會更好一點,但研磨時間會非常長,而且進口砂磨機價格昂貴,需要100多萬,還需要專業(yè)的操作人員。而上海依肯的CMD2000系列是由膠體磨和分散機組合而成的高科技產(chǎn)品,它的一級是膠體磨的三級研磨頭,由粗至細至超細,可將較粗顆粒研磨至超細;二級連接一個超細齒的分散頭,轉(zhuǎn)速9000rpm,可將納米級顆粒瞬間進行分散,防止顆粒抱團。

 

CMD2000系列研磨分散機的結(jié)構(gòu):研磨式分散機是由錐體磨,分散機組合而成的高科技產(chǎn)品。

**級由具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

第二級由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計也很好地滿足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子(乳化頭)和批次式機器的工作頭設(shè)計的不同主要是因為 在對輸送性的要求方面,特別要引起注意的是:在粗精度、中等精度、細精度和其他一些工作頭類型之間的區(qū)別不光是指定轉(zhuǎn)子齒的排列,還有一個很重要的區(qū)別是 不同工作頭的幾何學特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例,依據(jù)以前的經(jīng)驗指定工作頭來滿 足一個具體的應用。在大多數(shù)情況下,機器的構(gòu)造是和具體應用相匹配的,因而它對制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿足預期的應用。

 

CMD2000研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,CM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼;特殊要求如:硬度較大物料,對鐵雜質(zhì)要求嚴苛的物料,管道有一定壓力并且需不間斷運轉(zhuǎn)的工況,可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷;CMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計,可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

研磨分散機的特點:

1、 線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨

 

2、 定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。

3 定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、 在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。

5 高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級:化工級、衛(wèi)生I級、衛(wèi)生II級、無菌級
電機形式:普通馬達、變頻調(diào)速馬達、防爆馬達、變頻防爆馬達、
電源選擇 380V/50HZ、220V/60HZ440V/50HZ
電機選配件 PTC 熱保護、降噪型
研磨分散機材質(zhì)SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機選配:儲液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動小車
研磨分散機表面處理:拋光、耐磨處理
進出口聯(lián)結(jié)形式:法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機選配容器:本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

 

從設(shè)備角度來分析,影響研磨分散機效果因素有以下幾點:

1.研磨頭的形式(批次式和連續(xù)式)(連續(xù)式比批次式要好)

2.研磨頭的剪切速率,(越大效果越好)

3.研磨的齒形結(jié)構(gòu)(分為初齒、中齒、細齒、超細齒、越細齒效果越好)

4.物料在分散墻體的停留時間、研磨分散時間(可以看作同等電機,流量越小效果越好)

5.循環(huán)次數(shù)(越多效果越好,到設(shè)備的期限就不能再好了。)

 

線速度的計算:

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
               g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。 
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

 所以轉(zhuǎn)速和分散頭結(jié)構(gòu)是影響分散的一個zui重要因素,超高速分散均質(zhì)分散機的高轉(zhuǎn)速和剪切率對于獲得超細微懸浮液是zui重要的

 

CMD2000系列研磨分散機設(shè)備選型表
 

型號

流量

L/H

轉(zhuǎn)速

rpm

線速度

m/s

功率

kw

入/出口連接

DN

CMD2000/4

300

9000

23

2.2

DN25/DN15

CMD2000/5

1000

6000

23

7.5

DN40/DN32

CMD2000/10

2000

4200

23

22

DN80/DN65

CMD2000/20

5000

2850

23

37

DN80/DN65

CMD2000/30

8000

1420

23

55

DN150/DN125

CMD2000/50

15000

1100

23

110

DN200/DN150

 

流量取決于設(shè)置的間隙和被處理物料的特性,可以被調(diào)節(jié)到**允許量的10%

 


 




13795214885  賈清清



創(chuàng)新點

IKN研磨分散機設(shè)計獨特,能夠延長易損件的使用時間,因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎??梢砸粰C多用,也可以單獨使用,且粉碎粒度范圍廣,成品粒徑可以進行調(diào)整。

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