參考價格
10-20萬元型號
ERS2000品牌
IKN產地
德國樣本
暫無處理量:
300-40000物料類型:
其它工作原理:
立式調速范圍:
0-14000分散輪直徑(mm):
75全容積(m3):
450*350*750能耗:
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鋰電新工藝漿料混合分散劑,納米級超細粉體解團聚研磨分散機,管道高剪切分散劑,碳納米管立式研磨分散劑,石墨烯分散剝離研磨分散機,
高效率改進型納米粉體分散機工作原理:物料磨細后,瞬間又通過分散工作組,進行分散,在物料還未抱團之前,就進行了分散,一個瞬間作用,效果會好很多。
在傳統(tǒng)的生產工藝當中,混合分散設備大多采用雙行星攪拌機,然而雙行星攪拌機會帶來兩個問題
①納米級超細粉體在制漿過程中極易形成團聚體,而雙行星攪拌機無法將其分散。
②難以忍受的制漿時間(制漿時間過長,約6-8小時,甚至十幾個小時)
應對這個棘手的問題,人們不斷的研究,zui終選擇采用高剪切分散機理來對電極活性物進行分散,并形成了以下的解決方案:
將傳統(tǒng)雙行星混合設備作為宏觀分散單元完成粉-液漿料的宏觀分散,而高剪切分散設備作為微觀分散單元,可以快速完成微觀上的超細分散,顯zhu提高了分散效率,將每批漿料8-10小時左右的工作周期縮短為4-5小時,提高了生產效率,大大減少了設備投入,并節(jié)約了成本。
上海依肯zhuan業(yè)生產研發(fā)高剪切分散設備,依肯的高剪切分散設備轉速可高達14000rpm,分散效果*。在鋰電行業(yè)有著充分的應用,如“碳納米管的分散”“石墨烯的分散”,依肯公司都有著十足的經驗和技術。
納米級超細粉體解團聚研磨分散機由電動機通過皮帶傳動帶動轉齒(或稱為轉子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉,同時,可將電機能量更有效地轉化為尺寸減小力,從而在粉末研磨和精細化學粉碎方面ling先于其他同行業(yè)設備。被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產生)加壓產生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉齒之間的間隙(間隙可調)時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
納米級超細粉體解團聚研磨分散機是上海依肯機械設備公司和德國IKN工程師合作研發(fā)的一款高科技產品,由膠體磨、分散機組合而成;是國內較早一款將研磨和分散兩種功能結合的流體設備。
1.線速度很高,剪切間隙非常小,當物料經過的時候,形成的摩擦力非常強烈,通常所說的超細濕磨
2.定轉子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三層鋸齒突起和凹槽。
3.定子可以無限制的被調整到所需要的與轉子之間的距離
4.在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。
5.高質量的表面拋光和結構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。
德國IKN
zui新的設計融合了許多創(chuàng)新,提供更多應用多功能性,更易于清潔和維護。
砂磨機:鋯珠易損,引入雜質,更換維修成本高;
國內膠體磨/研磨機/分散機:轉速普遍2930rpm,不超過3000rpm,作用力弱,粉碎研磨細度不夠,漿料穩(wěn)定性差;
德國IKN研磨分散機(改進型膠體磨/改進型分散機):轉速范圍9000rpm-14000rpm-21000rpm,剪切力,研磨力,分散力更強,粒徑更小,分布范圍更窄,漿料穩(wěn)定性更好。產生均勻的尺寸減小率并產生窄的,一致的和可重復的粒度分布。
CMSD 2000系列納米粉體解團聚研磨分散機設備選型表
型號 | 流量 L/H | 轉速 rpm | 線速度 m/s | 功率 kw | 入/出口連接 DN | ||
CMSD 2000/4 | 300 | 14000 | 41 | 4 | DN25/DN15 | ||
CMSD 2000/5 | 1000 | 10500 | 41 | 11 | DN40/DN32 | ||
CMSD 2000/10 | 4000 | 7200 | 41 | 22 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/20 | 10000 | 4900 | 41 | 45 | DN80/DN65 | ||
CMSD 2000/30 | 20000 | 2850 | 41 | 90 | DN150/DN125 | ||
CMSD 2000/50 | 60000 | 1100 | 41 | 160 | DN200/DN150 |
表中上限處理量是指介質為“水”的測定數據。
流量取決于設置的間隙和被處理物料的特性,可以被調節(jié)到zui大允許量的10%
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高效率改進型納米粉體分散機工作原理:物料磨細后,瞬間又通過分散工作組,進行分散,在物料還未抱團之前,就進行了分散,一個瞬間作用,效果會好很多。
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