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ALD原子層沉積系統(tǒng)
ALD原子層沉積系統(tǒng)

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

SAL1000G

品牌

產(chǎn)地

樣本

暫無(wú)
凱戈納斯儀器商貿(mào)(上海)有限公司

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第6年

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SAL1000G是一款包含手套箱小型桌面ALD原子層沉積系統(tǒng),具有良好的均勻性及優(yōu)越的階梯覆蓋性能,使用戶能夠精確控制每個(gè)原子層的沉積。通過(guò)手套箱,可在惰性氣體環(huán)境下進(jìn)行操作,并且可以防止吸入納米級(jí)顆粒。該設(shè)備是小型且經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的型號(hào),與主機(jī)和控制電源相結(jié)合,追求僅在桌面上更容易操作。 它能夠處理多達(dá)4“晶圓的沉積,并對(duì)每個(gè)部件采取安全措施。

AGUS提供沉積測(cè)試服務(wù)作為我們支持的一部分,以提高實(shí)驗(yàn)準(zhǔn)確性。請(qǐng)隨時(shí)與凱戈納斯儀器商貿(mào)(上海)有限公司聯(lián)系。

- 多樣性 -

· 真空可移動(dòng)的手套箱可以處理易氧化的樣品。

· 前驅(qū)體標(biāo)配兩組閥門(mén)和氣瓶。

· 可選擇將前驅(qū)體加熱至200攝氏度。

· 可選擇基片自動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架。

· 可選擇粉體沉積配件。

· 可選擇經(jīng)濟(jì)實(shí)惠的廢氣處理設(shè)備。

1.jpg

- 表現(xiàn) -

· 保證基片表面上的每個(gè)均勻原子層針孔自由層沉積。

· 通過(guò)階梯覆蓋沉積在不均勻或3D形狀的表面。

· 與CVD和PVD相比,可以獲得更好的沉積,特別是對(duì)于具有更高縱橫比和多孔沉積材料。

- 操作界面友好 -

· 觸摸屏使用戶可以輕松設(shè)置配方或沉積過(guò)程,并檢查每個(gè)驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)的運(yùn)動(dòng)。

· 可進(jìn)行自動(dòng)沉積,并在沉積完成后自動(dòng)完成N2排放。

· 手套箱的真空排氣和惰性氣體的引入也可自動(dòng)完成。

- 安全性 -

· 這是具有各種互鎖功能的高級(jí)設(shè)備。

 - 具有輕柔關(guān)閉功能的頂部艙口使用戶可以輕松地裝載和卸載基片。

 

性能

真空度

到達(dá)壓力

≤5Pa

成膜性能

膜厚分布

≤± 3% (φ 100mm)

設(shè)備構(gòu)成

設(shè)備型號(hào)

SAL1000G

成膜方向

下表面

基底尺寸

φ 100mm or 4 inch Max

基底加熱器溫度

350℃ Max

前驅(qū)體數(shù)

2

前驅(qū)體溫度

150℃ Max

凈化氣體

N2 (氣體控制:帶流量計(jì)針型閥)

手套箱

有機(jī)玻璃,真空-氮?dú)獯祾呤?/p>

真空泵

162L/min 旋片式真空機(jī)械泵

重量

本體:50kg,手套箱:35kg,真空泵:27kg

可選配置

基片自動(dòng)旋轉(zhuǎn)支架

粉體沉積配件

廢氣處理設(shè)備

前驅(qū)體加熱器- 200℃

安裝要求

電源要求

電源

3相、 200V ± 10% 、15A 、50/60Hz

接地

<100Ω

線纜

5m 附贈(zèng)

N2吹掃氣體

供給壓力

0.1 ~.0.2Mpa

接口

1/4 Swagelok

壓縮空氣

供給壓力

0.6 ~0.8Mpa

接口

φ6mm 接口

真空泵排氣口

排氣口

KF-25法蘭

設(shè)備排氣口

排氣口

φ38mm x   L28軟管適配器

安裝尺寸

W1000 x D700 x H900


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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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