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LP10C平面精密環(huán)拋機
LP10C平面精密環(huán)拋機

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LP10C

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LP10C平面精密環(huán)拋機(聚氨酯拋光)

  • 用于高精度光學玻璃、石英、晶體、陶瓷、硅片、藍寶石等平面元件的精密拋光。 主要技術(shù)參數(shù) 磨盤直徑(花崗巖磨盤) 1000mm 磨盤轉(zhuǎn)速 0,10~40轉(zhuǎn)/分 (根據(jù)用戶定) 盤面面形 0.06mm 單點跳

  • 用于高精度光學玻璃、石英、晶體、陶瓷、硅片、藍寶石等平面元件的精密拋光。

  •                                                               主要技術(shù)參數(shù)
     磨盤直徑
     (花崗巖磨盤)
    Φ1000mm 磨盤轉(zhuǎn)速   0,10~40轉(zhuǎn)/分
       (根據(jù)用戶定)
    盤面面形 ≤0.06mm 單點跳動 ≤0.01mm
    盤面跳動  ≤0.06mm 加工范圍  Φ≤350mm
    水盆直徑 Φ1150mm 總功率 3.8KW/380V
    外形尺寸  1400×1400×1400(mm)   重量  約1500Kg
                                        機床的任何特殊需求都可根據(jù)用戶的要求設計、制造


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