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LP10C品牌
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用于高精度光學(xué)玻璃、石英、晶體、陶瓷、硅片、藍(lán)寶石等平面元件的精密拋光。 主要技術(shù)參數(shù) 磨盤直徑(花崗巖磨盤) 1000mm 磨盤轉(zhuǎn)速 0,10~40轉(zhuǎn)/分 (根據(jù)用戶定) 盤面面形 0.06mm 單點跳
用于高精度光學(xué)玻璃、石英、晶體、陶瓷、硅片、藍(lán)寶石等平面元件的精密拋光。
主要技術(shù)參數(shù) | |||
磨盤直徑 (花崗巖磨盤) |
Φ1000mm | 磨盤轉(zhuǎn)速 |
0,10~40轉(zhuǎn)/分 (根據(jù)用戶定) |
盤面面形 | ≤0.06mm | 單點跳動 | ≤0.01mm |
盤面跳動 | ≤0.06mm | 加工范圍 | Φ≤350mm |
水盆直徑 | Φ1150mm | 總功率 | 3.8KW/380V |
外形尺寸 | 1400×1400×1400(mm) | 重量 | 約1500Kg |
機床的任何特殊需求都可根據(jù)用戶的要求設(shè)計、制造 |
暫無數(shù)據(jù)!
產(chǎn)品質(zhì)量
售后服務(wù)
易用性
性價比