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主真空室

方形前開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，尺寸L×W×H:400×400×450mm

進(jìn)樣室(選配)

開(kāi)門(mén)結(jié)構(gòu)，尺寸約為?200 X 300mm

真空系統(tǒng)配置

主真空室

復(fù)合分子泵、機(jī)械泵、氣動(dòng)閘板閥

進(jìn)樣室

機(jī)械泵、分子泵、閥門(mén)

極限壓力

主真空室

≤6. 67x10-5pa(經(jīng)烘烤除氣后）

進(jìn)樣室

≤6.67X10-4 pa(經(jīng)烘烤除氣后）

恢復(fù)真空時(shí)間

主真空室

30分鐘可達(dá)到6. 6x10-4 pa(系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_(kāi)始抽氣）

進(jìn)樣室

30分鐘可達(dá)到6. 6x10-3 Pa (系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)忾_(kāi)始抽氣）

磁控靶組件

2-4套永磁靶；靶材尺寸?60mm (其中一個(gè)可濺射磁性材料）；各靶射頻濺射和直流濺射兼容；靶內(nèi)水冷；三個(gè)靶可共同折向上面的樣品中心；靶與樣品距離90~110mm可調(diào)；每個(gè)靶配氣動(dòng)擋板。

基片加熱臺(tái)

樣品尺寸

?3英寸

運(yùn)動(dòng)方式

基片可連續(xù)回轉(zhuǎn)，轉(zhuǎn)速0-30rpm

加熱

基片加熱**溫度600℃±1℃

擋板形式

進(jìn)口SMC轉(zhuǎn)角氣缸控制

工藝氣路系統(tǒng)

質(zhì)量流量控制器2-4路

*可選部件

進(jìn)樣室磁控靶組件

永磁靶，靶材尺寸? 60mm。

膜厚儀

國(guó)產(chǎn)/進(jìn)口

靜音氣泵

無(wú)油潤(rùn)滑

計(jì)算機(jī)控制系統(tǒng)

自動(dòng)控制、工藝讀入、參數(shù)設(shè)置、實(shí)時(shí)監(jiān)控等功能

設(shè)備占地面積

主機(jī)

1800X1200mm2