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Brookfield博勒飛產(chǎn)地
美國樣本
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博勒飛錐板粘度計(jì)CP-博勒飛粘度計(jì)
品牌: 博勒飛Brookfield
型號: 錐板粘度計(jì)
產(chǎn)地: 美國
技術(shù)參數(shù)
錐板粘度計(jì),進(jìn)口錐板粘度計(jì),Brookfield錐板粘度計(jì),博勒飛錐板粘度計(jì)、博勒飛粘度計(jì)**代理:東南科儀。有DV3T CP流變儀，DV2T CP錐板粘度計(jì)和DV-1 CP錐板粘度計(jì)幾種機(jī)型。
| 型號 | 測量范圍cP（mPa.S） | 轉(zhuǎn)速選擇 | 標(biāo)配轉(zhuǎn)子數(shù) | |||||
| CPA-40Z | CPA-41Z | CPA-42Z | CPA-51Z | CPA-52Z | RPM | 級數(shù) | ||
| DV3TLVCP | 0.1-3K | 0.5-11K | 0.2-6K | 2-48K | 3-92K | 0.01-250 | 2.6K | 1 |
| DV2TLVCP | 0.2-3K | 0.6-11K | 0.3-6K | 2-48K | 4-92K | 0.1-200 | 200 | 1 |
| DV1MLVCP | 0.3-1K | 1-3K | 0.6-2K | 5-16K | 9-30K | 0.3-100 | 18 | 1 |
| DV3TRVCP | 1-32K | 5-122K | 2-64K | 20-512K | 39-983K | 0.01-250 | 2.6K | 1 |
| DV2TRVCP | 1.6-32K | 6-122K | 3-64K | 25-512K | 49-983K | 0.1-200 | 200 | 1 |
| DV1MRVCP | 3-10K | 12-41K | 6-21K | 51-170K | 98-327K | 0.3-100 | 18 | 1 |
| DV3THACP | 2.6-65K | 10-245K | 5-128K | 41-1M | 78-2M | 0.01-250 | 2.6K | 1 |
| DV2THACP | 3-65K | 12-245K | 6-128K | 51-1M | 98-2M | 0.1-200 | 200 | 1 |
| DV1MHACP | 6.6-21K | 24-81K | 12-42K | 102-341K | 196-655K | 0.3-100 | 18 | 1 |
| DV3THBCP | 10.5-261K | 39-982K | 20-512K | 163-4M | 314-7.8M | 0.01-250 | 2.6K | 1 |
| DV2THBCP | 13-261K | 49-982K | 25.6-512K | 204-4M | 393-7.8M | 0.1-200 | 200 | 1 |
| DV1MHBCP | 26-87K | 98-327K | 51-170K | 409-4M | 786-2.6M | 0.3-100 | 18 | 1 |
整機(jī)包括：主機(jī)、轉(zhuǎn)子一個(gè)（訂貨時(shí)指定）、配套樣品杯、支架。
性能特點(diǎn)
用于測量0.5～2.0ml微量樣品的**粘度，提供精確的剪切率測量，用于詳細(xì)的產(chǎn)品性質(zhì)分析
操作簡便，錐板粘度計(jì)可快速測定**粘度。
電動指示錐距調(diào)整情況，錐板粘度計(jì)操作簡便
有DV3T+CP流變儀、DV-2T+CP及DV1+CP粘度計(jì)幾種機(jī)型錐板粘度計(jì)
可選購帶有內(nèi)置式RTD感應(yīng)器的樣品杯，精確檢測樣品溫度
提供五種型號錐/板選擇，適應(yīng)不同粘度范圍
錐板粘度計(jì)可選購Rheocalc軟件（DV3T及DV2T）及Wingather SQ（DV1）軟件
適用范圍
Brookfield LV系列錐板粘度計(jì)–適用于低粘度流體
膠粘劑 樹脂流體
生化制劑 油、石油
化學(xué)品 聚合物溶液
熱石蠟 橡膠溶液
果汁 溶劑
乳膠
Brookfield RV系列錐板粘度計(jì)–適用于中等粘度流體
化妝品 油漆
霜類物體 造紙涂料
日用化工品 石油、石化產(chǎn)品
食品 淀粉
凝膠 表面涂料
絲印油墨 光亮劑
有機(jī)溶劑
Brookfield HA/HB系列錐板粘度計(jì)–適用于高粘度流體
膠粘劑 膏體
環(huán)氧樹脂 藥品
油墨 屋頂材料
（圓珠筆油墨， 牙膏
平板印刷油墨）
選擇不同的錐板粘度計(jì)的機(jī)型（LV,RV,HA,HB）時(shí)一定要考慮您是應(yīng)用在什么樣品上，樣品的粘度范圍是多少
暫無數(shù)據(jù)！
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背景介紹隨著半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步，設(shè)備微型化和集成化程度不斷提高，對制造環(huán)境的要求也越來越高。特別是在先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)（如7nm、5nm及更小節(jié)點(diǎn)）中，高TOC（總有機(jī)碳）水平可能導(dǎo)致晶圓表面污染
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