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單層氮化硼薄膜(HBN)SiO2/Si基底
單層氮化硼薄膜(HBN)SiO2/Si基底

參考價格

面議

型號

102674

品牌

先豐納米

產(chǎn)地

江蘇

樣本

暫無
江蘇先豐納米材料科技有限公司

金牌會員

|

第11年

|

生產(chǎn)商

工商已核實

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核心參數(shù)
  • 制作方法:

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  • 目數(shù):

    >4 um
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1026767440-42-8XF2391片2英寸x2英寸,SiO2/Si基底

產(chǎn)品名稱

中文名稱:單層氮化硼薄膜(HBN

英文名稱:Monolayer boron nitride filmHBN

 

性質(zhì) 

覆蓋率:100%

基底:SiO2/Si

晶粒尺寸:>4 um

氧化層:300 nm
硅:500 um

 

應用

HBN薄膜可被用作金屬絕緣金屬結構的超薄間隔層,以及電子的隧道阻擋層,使其具有廣泛的應用,例如納米電容器、場效應隧道晶體管。作為單分子膜還可被用作介質(zhì)或基片。



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