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石墨盤專用真空烤盤爐
產(chǎn)品介紹：真空烤盤爐是與MOCVD設備配套使用的爐體，爐內抽真空，被處理工件放置在爐膛內，采用清洗氣體加熱反應方式進行干式清洗（清洗氣體：N2，H2）。
應用范圍：
主要用于有效清除MOCVD承受器 （SiC涂層石墨盤或石英盤）上的氮化鎵和氮化鋁等，可達到有效清潔處理，提高制品質量的目的。
設計特點：
1、后門設計熱風電機
2、降溫時風機開啟，同時兩端降溫封頭開啟， 爐膛內產(chǎn)生如圖所示的氣體流向
3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進 行熱交換，達到快速降溫的目的
內部系統(tǒng)結構及原理：
技術參數(shù)：
設計特點：1、后門設計熱風電機2、降溫時風機開啟，同時兩端降溫封頭開啟， 爐膛內產(chǎn)生如圖所示的氣體流向3、通過氣體介質將隔熱層內與水冷壁之間進 行熱交換，達到快速降溫的目的
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