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KS 4000 ic control品牌
IKA產(chǎn)地
德國(guó)樣本
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| 運(yùn)行方式 | 圓周 |
| 周轉(zhuǎn)直徑 | 20 mm |
| 允許震蕩承重量(含夾具) | 20 kg |
| 電機(jī)輸入功率 | 82 W |
| 電機(jī)輸出功率 | 24 W |
| 允許連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間 | 100 % |
| *小轉(zhuǎn)速 (可調(diào)節(jié)) | 10 rpm |
| 速度范圍 | 10 - 500 rpm |
| 轉(zhuǎn)速顯示 | LED |
| 轉(zhuǎn)速偏差 | ±5 rpm |
| 轉(zhuǎn)速控制 | 1 RPM/步 |
| 計(jì)時(shí)器 | 是 |
| 計(jì)時(shí)器顯示 | LED七分區(qū) |
| 時(shí)間設(shè)置范圍 | 1 - 59940 min |
| 運(yùn)行方式 | 定時(shí)，連續(xù)運(yùn)轉(zhuǎn) |
| 加熱輸出功率 | 1000 W |
| 加熱溫度控制精確度 | ±0.1 K |
| 帶傳感器的溫控準(zhǔn)確性（0.5L水，室溫22°C，設(shè)定溫度37°C） | ±0.5 K |
| 溫度顯示 | 是 |
| 介質(zhì)溫度穩(wěn)定性 (0,2l H2O; RT 25°C, T=37°C) | ±0.1 K |
| 控溫范圍(冷卻介質(zhì)溫度>3°C) | 室溫 - 10° - 80° °C |
| 內(nèi)腔工作面積 | 440 x 440 x 352 mm |
| 內(nèi)腔總?cè)莘e | 90 l |
| 外殼原料 | 片狀金屬粉末涂層 |
| 前控制薄膜原料 | 聚酯薄膜 |
| 溫度穩(wěn)定性 (1個(gè)容器 0.5 L, RT 25°C, T=37°C) | ±0.05 K |
| 溫度均勻性 (5個(gè)容器 0.5 L; RT 25°C, T=37°C) | ±0.5 K |
| 面罩打開(kāi)時(shí)高度 | 875 mm |
| 外形尺寸 | 580 x 520 x 750 mm |
| 重量 | 55 kg |
| 允許環(huán)境溫度 | 15 - 32 °C |
| 允許相對(duì)濕度 | 80 % |
| DIN EN 60529 保護(hù)方式 | IP 30 |
| RS 232接口 | 是 |
| 電壓 | 230 V |
| 頻率 | 50/60 Hz |
| 儀器輸入功率 | 1120 W |
| Fuse | 2x T10A 250V |
其他可用電壓( (230 V / 115 V / 100 V)
創(chuàng)新的恒溫?fù)u床設(shè)計(jì)，內(nèi)置冷卻盤(pán)管，可實(shí)現(xiàn)無(wú)人值守的溫控環(huán)境。
大屏數(shù)顯液晶屏，可顯示振蕩轉(zhuǎn)速和時(shí)間設(shè)置
夾具為選配件，請(qǐng)單獨(dú)訂購(gòu)
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2023年12月15-17日，以“藥物制劑新型工業(yè)化——?jiǎng)?chuàng)新 智能 科學(xué)監(jiān)管”為主題的2023年中國(guó)藥學(xué)會(huì)工業(yè)藥劑學(xué)大會(huì)在南京召開(kāi)。共分1場(chǎng)開(kāi)幕式主論壇、4場(chǎng)專(zhuān)題分論壇、1場(chǎng)專(zhuān)業(yè)委員會(huì)工作會(huì)議，圍繞新
2023年11月3日，英國(guó)羅維朋攜手東南科儀舉辦的PFXi系列全自動(dòng)色度儀用戶(hù)交流會(huì)取得圓滿(mǎn)成功。會(huì)議邀請(qǐng)了英國(guó)羅維朋國(guó)際銷(xiāo)售經(jīng)理Matt Boeck 先生、英國(guó)羅維朋產(chǎn)品經(jīng)理Matt Ru
環(huán)保節(jié)能：新款 KB ECO 和 KB 系列的其他培養(yǎng)箱一樣，這款產(chǎn)品能溫和處理樣品，并且性能強(qiáng)大——但也有不同之處：新款低溫培養(yǎng)箱 KB ECO 系列更節(jié)能，并且更加環(huán)保。&nb
陰極銅是工業(yè)銅的一種，具有較優(yōu)良的導(dǎo)電性、導(dǎo)熱性、延展性、耐腐蝕性、耐磨性等特點(diǎn)，常加工成銅線(xiàn)、銅棒、銅板帶、銅箔以及各類(lèi)合金產(chǎn)品，廣泛應(yīng)用于電力、電子、交通設(shè)備、機(jī)械制造、建筑工業(yè)、國(guó)防工業(yè)、醫(yī)學(xué)、
背景介紹隨著半導(dǎo)體技術(shù)的進(jìn)步，設(shè)備微型化和集成化程度不斷提高，對(duì)制造環(huán)境的要求也越來(lái)越高。特別是在先進(jìn)工藝節(jié)點(diǎn)（如7nm、5nm及更小節(jié)點(diǎn)）中，高TOC（總有機(jī)碳）水平可能導(dǎo)致晶圓表面污染
2024年，阿美特克-博勒飛推出了全新一代HPQA-Helipath 快速升降支架。鑒于新品使用過(guò)程中，用戶(hù)可能遇到的問(wèn)題或困惑，做一個(gè)概括性的Q&A。Q：HPQA上具有運(yùn)動(dòng)速度編輯功能嗎？最
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