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Retsch XRD-MILL MCCRONE品牌
Retsch產(chǎn)地
德國(guó)樣本
暫無(wú)粉碎程度：
其他單位能耗：
-產(chǎn)量：
-裝機(jī)功率（kw）：
-成品細(xì)度：
-入料粒度（mm）：
見技術(shù)參數(shù)工作原理：
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XRD-Mill McCrone是專門為后續(xù)X射線衍射（XRD）分析的樣品制備而開發(fā)的。該研磨儀可用于地質(zhì)學(xué)、化學(xué)、礦物學(xué)和材料科學(xué)、質(zhì)量控制以及科學(xué)研究的應(yīng)用。
由于其獨(dú)特的研磨運(yùn)動(dòng)，XRD-Mill McCrone對(duì)這種分析方法特別有效。48個(gè)圓柱形研磨元件通過摩擦輕輕地研磨樣品。其結(jié)果是研磨時(shí)間短，幾乎沒有樣品損失，而且粒徑分布特別窄，因此可以進(jìn)行非常好的相位分析。
完整保留了晶格結(jié)構(gòu)，為有效X射線衍射分析提供了先決條件。
研磨容器由一個(gè)容量為125毫升的聚丙烯罐組成，配有一個(gè)螺旋蓋的無(wú)墊片聚乙烯封口。罐子里裝滿了48個(gè)相同的圓柱形研磨元件的有序排列，有瑪瑙、氧化鋯或剛玉等材質(zhì)。實(shí)現(xiàn)微粉化的研磨時(shí)間在3到30分鐘之間。典型的樣品量在2到4毫升之間。
為了后續(xù)用于X射線衍射分析的有機(jī)樣品制備，我們還提供了由瑪瑙制成的研磨套件。
nitrides, 云母, 建筑原料, 植物原料, 水泥, 玻璃, 石板, 礦物, 硼化物, 碳化物, 粘土, 金屬, 陶瓷
研磨過程中晶格被保留。
粒徑分布窄。
幾乎沒有交叉污染。
緊湊、桌面型機(jī)型
可調(diào)研磨功率(4步)
適合于干磨和濕磨。
清洗方便。
免維護(hù)。
運(yùn)行安靜。
| 應(yīng)用 | 搗磨、混和與研磨制樣；干磨或濕磨 |
| 應(yīng)用領(lǐng)域 | X射線衍射 |
| 樣品特征 | 中硬性, 硬的, 脆性的, 含纖維的 |
| **進(jìn)樣尺寸 | <0.5毫米 |
| *終出料粒度 * | < 1 μm |
| 網(wǎng)頻50赫茲（60赫茲）下的轉(zhuǎn)速 | 1,000 - 1,500 min-1 4步 |
| 研磨平臺(tái)數(shù) (可接納研磨罐數(shù)) | 1 |
| 典型粉碎時(shí)間 | 3 - 30 min |
| 干磨 | 是 |
| 濕磨 | 是 |
| 低溫研磨 | 無(wú) |
| 研磨套件材料： | 瑪瑙, 氧化鋯, 金剛石 |
| 研磨罐尺寸 | 125 ml |
| 粉碎時(shí)間設(shè)定 | 數(shù)字顯示，00:00:01 至 99:59:50 |
| 驅(qū)動(dòng) | DC-Motor |
| 驅(qū)動(dòng)功率 | 50W |
| 電源數(shù)據(jù)： | 100-240 V, 50/60 Hz |
| 電源接頭： | 單相 |
| 防護(hù)類型 | IP 30 |
| 接受功率 | 100W |
| 機(jī)體尺寸（寬x高x縱深） | 205 x 155 x 520 mm |
| 凈重 | ~19 kg |
| 標(biāo)準(zhǔn) | CE |
受樣品材料性質(zhì)和儀器配置/設(shè)定的影響
XRD-Mill McCrone主要依靠摩擦力研磨樣品。48個(gè)圓柱形的研磨塊在罐內(nèi)排成8排，每排6件。 在運(yùn)行過程中，罐子做圓周運(yùn)動(dòng)，研磨塊把樣品從小于0.5 mm研磨到亞微米水平（通常小于10 um）。 由于研磨過程很溫和，所以晶格可以完整保留。這使得XRD-Mill McCrone成為X射線衍射分析樣品制備很好的選擇。
暫無(wú)數(shù)據(jù)！
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