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應(yīng)用范圍：

各種樣品中低含量、微量和痕量的金屬元素，以及部分非金屬元素的定性和定量分析；

尤其適合分析樣品量大，分析結(jié)果要求高的用戶；

可廣泛應(yīng)用于 石油、化工、冶金、鋼鐵、地質(zhì)、農(nóng)業(yè)、環(huán)保、水質(zhì)、食品、藥品、疾控、材料、質(zhì)檢等行業(yè)

技術(shù)特點：

超高的分辨率+優(yōu)異的光學(xué)性能

　PlasmaQuant 9100光學(xué)分辨率可達3pm，達到譜線自然寬度水平，因此即便面對復(fù)雜的基體樣品，也可輕松應(yīng)對光譜干擾。同時，PlasmaQuant 9100采用原裝的卡爾蔡司光學(xué)系統(tǒng)，保證了160nm-900nm波長連續(xù)全覆蓋和優(yōu)于0.0004nm的波長準確度。

高分辨率可在**范圍內(nèi)提供**的分辨率的分析譜線，特別適合各種復(fù)雜樣品的檢測，提供準確的分析結(jié)果，讓分析工作變得更為簡單高效。

增強型雙向觀測技術(shù)

　　一次進樣4種觀測方式，沒有濃度斷檔，無需分組或稀釋，可滿足不同濃度（ppb-%）的同步測量，為所有元素和濃度提供*合適的觀測和測量方式，滿足所有應(yīng)用要求。

*強勁穩(wěn)定的等離子體激發(fā)系統(tǒng)

　　PlamaQuant 9100高分辨率ICP-AES配備高能量、高穩(wěn)定的等離子體激發(fā)系統(tǒng)，可從容應(yīng)對*復(fù)雜基體樣品的測定，顯著擴大測試的應(yīng)用范圍。同時由于儀器在復(fù)雜基體中可獲得極低的檢出限和樣品允許使用更少的前處理步驟，使得測試結(jié)果更加精準、方法穩(wěn)定性更佳，測試效率大大提高。滿足省時：開機即測(5分鐘)；省氣：無需提前和延時吹掃，所有吹掃氣體和冷卻氣體都將引入等離子氣充分利用；省事：高濃鹽、有機樣、高低濃度一次完成測定。　　

　 直觀的軟件界面，智能的背景扣除技術(shù)

　　Aspect PQ軟件控制、監(jiān)控和記錄整個PlasmaQuant 9100系統(tǒng)的所有過程，模塊化設(shè)計簡潔，提供**的操作靈活性。

ABC背景校正技術(shù)，軟件可自動精確扣除背景，消除人為誤差，保證數(shù)據(jù)準確，可重現(xiàn)性好。

CSI，先進的光譜建模扣背景技術(shù)，可將樣品基體的精細結(jié)構(gòu)背景，在測量時通過模型進行扣除，得到測試元素本身的譜圖，還原譜線本真模樣。

人性化設(shè)計 — 即開即測，操作便捷、維護簡單

* 即開即用 — 高性能新一代CCD檢測器

* 省時省氣 — 測試結(jié)束即可關(guān)機，深紫外區(qū)元素?zé)o需長時間提前吹掃

* 實時自檢系統(tǒng) — 全方位保障，使您安心

* 組合式炬管 — 高靈活性，降低成本

* 卡插式設(shè)計 —自動準直，1分鐘即可完成安裝

PlasmaQuant 9100是工業(yè)等許多應(yīng)用領(lǐng)域分析的有利幫手，可揭示樣品的*小細節(jié)，助您在質(zhì)量控制、成分分析和過程控制方面大有所為！