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EscaLabXi+ X射線光電子能譜儀
EscaLabXi+ X射線光電子能譜儀

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英國(guó)

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賽默飛世爾科技分子光譜

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ESCALAB XI配備了微聚焦單色化X射線源,旨在提供**的XPS分析性能+X射線光電子能譜儀能滿足大吞吐量樣品測(cè)試需求多技術(shù)能力、一系列靈活的樣品制備室及樣品處理設(shè)備,使該儀器在解決任何表面分析問(wèn)題時(shí)都能游刃有余。利用先進(jìn)的 Avantage 數(shù)據(jù)采集和處理系統(tǒng),從測(cè)試數(shù)據(jù)中挖掘盡可能多的信息。

The ESCALAB XI+ X-ray Photoelectron Spectrometer (XPS) Microprobe Features:

  • 高靈敏度能譜

  • 小面積 XPS

  • 深度剖析能力

  • 角分辨 XPS

  • 標(biāo)配離子散射能譜 (ISS)功能

  • 標(biāo)配反射電子能量損失譜 (REELS)功能

  • 標(biāo)配“樣品預(yù)處理”室

  • 多技術(shù)分析的多功能性

  • 多個(gè)樣品制備技術(shù)可選

  • 全自動(dòng)無(wú)人值守式分析

  • 多樣品分析

單色化X射線源

  • 雙晶體微聚焦單色器配備一個(gè) 500 mm 直徑的羅蘭圓,使用鋁陽(yáng)極靶

  • 樣品 X 射線光斑尺寸可選擇范圍為 200 至 900 μm

透鏡、分析儀和檢測(cè)器

  • 透鏡、分析儀和檢測(cè)器構(gòu)成XPS檢測(cè)系統(tǒng)+XPS光譜儀在成像和微區(qū)方面的分析能力都是****的

  • 兩種類型的檢測(cè)器可以確保為每種分析提供**檢測(cè)——用于成像的二維檢測(cè)器和適用于高計(jì)數(shù)率檢測(cè)的電子倍增器

  • 透鏡配備了兩個(gè)電腦控制的虹膜機(jī)構(gòu) - 一個(gè)允許用戶將透鏡的視野控制在<20μm以下進(jìn)行微區(qū)分析,另一個(gè)控制透鏡的接收角度,以便獲得高質(zhì)量角度分辨數(shù)據(jù)

  • 180° 半球型能量分析器

深度剖析

  • 數(shù)控式 EX06 離子槍是一款高性能的離子源,哪怕在使用低能離子源時(shí)也有著很好的性能

  • 提供方位角樣品旋轉(zhuǎn)

  • 多技術(shù)能力

  • 可配備其他分析技術(shù)而不降低 XPS 檢測(cè)性能

  • 使用 EX06 離子槍時(shí)透鏡組和能量分析儀的電源可反向(確保離子散射能譜 (ISS) 可用)

  • 電子槍可加壓升至 1000 V,為 REELS 提供優(yōu)異的離子源

技術(shù)選項(xiàng)

  • 非單色化 X 射線光源的XPS分析

  • AES(俄歇電子能譜)

  • UPS(紫外光電子能譜)

真空系統(tǒng)

  • 5 mm 厚高導(dǎo)磁?金屬分析室,**程度提高磁屏蔽效率

  • 與使用內(nèi)部或外部屏蔽的方法相比,屏蔽效能更佳

樣品制備

  • 系統(tǒng)標(biāo)配一體化的快速進(jìn)樣室和制備室

  • 額外的制備室可選

Avantage 數(shù)據(jù)系統(tǒng)

  • 集成了測(cè)試分析的所有方面,包括儀器控制、數(shù)據(jù)采集、數(shù)據(jù)處理和報(bào)告生成

  • 允許遠(yuǎn)程控制,并且可輕松與第三方軟件交互(例如 Microsoft Word)

  • 管理從樣品載入到報(bào)告導(dǎo)出的整個(gè)分析過(guò)程

創(chuàng)新點(diǎn)

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用戶評(píng)論

產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
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