Q150V Plus為高真空鍍膜應(yīng)用做了優(yōu)化設(shè)計(jì),極限真空度可達(dá)
1x10-6mbar。結(jié)合潘寧規(guī)和皮拉尼規(guī)的使用,可以使易被氧化的金屬形成超小尺寸的顆粒,以實(shí)現(xiàn)高分辨率成像。高真空腔室也可以將氮?dú)猓鯕夂退耆ィ?/span>避免在濺射過程中因化學(xué)反應(yīng)導(dǎo)致雜質(zhì)和缺陷形成。較低的濺射速率還可獲得高純度和高密度的無定型碳膜。產(chǎn)品特點(diǎn)
1. 極限真空度可達(dá)1x10-6mbar
2. 新的LED狀態(tài)指示燈
3. 16G內(nèi)存可以存儲(chǔ)1000個(gè)以上條件設(shè)置記錄
4. 新軟件允許多用戶界面設(shè)置
5. 新的電容觸摸屏設(shè)計(jì)