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等離子清洗機(器)
等離子清洗機(器)

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四川

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成都維克光譜儀器技術(shù)發(fā)展有限公司

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儀器簡介:

國產(chǎn)PDC系列等離子清洗(處理)機是一種表面處理設(shè)備, 用氣體作為處理介質(zhì),它是利用能量轉(zhuǎn)換技術(shù)以電能將氣體轉(zhuǎn)換為化學(xué)反應(yīng)性和活性很高的氣體等離子體,等離子體對固體樣品表面進行相互作用,引起分子結(jié)構(gòu)改變,從而對樣品表面的有機污染物進行超清洗和使樣品表面改性,以獲得希望的表面特性。用氣體作為處理介質(zhì)有效地避免了對環(huán)境和樣品帶來的二次污染。等離子清洗器外接一臺真空泵,工作時氣體等離子體輕柔沖刷樣品的表面,短時間就可以使有機污染物被徹底地清洗掉,同時污染物被真空泵抽走,其清洗能力達到分子級。等離子清洗器可對樣品的表面改性,加強樣品的粘附性、相容性和浸潤性,也可對樣品消毒和殺菌。

國產(chǎn)PDC系列等離子清洗機是針對國外等離子清洗器價格貴,難以推廣等缺點,吸取了現(xiàn)有國內(nèi)外等離子清洗機的優(yōu)點,結(jié)合中國用戶的需求和使用習(xí)慣,利用現(xiàn)代先進的科技手段而開發(fā)生產(chǎn)出的新型系列等離子清洗機。它除具有一般等離子清洗機的優(yōu)點外,更具有性價比高,使用成本低,特別易于維護的優(yōu)點,而且可選性極強,可以滿足各種用戶不同使用目的對設(shè)備的特殊需求。清洗艙的材料有耐熱玻璃、不銹鋼可選;不銹鋼清洗艙有圓形、方形可選;清洗艙的尺寸可根據(jù)用戶的實際需要制定;清洗艙中工裝支架可根據(jù)用戶清洗件的尺寸量身定做。

技術(shù)參數(shù):

型號規(guī)格:PDC-MG

1.整機規(guī)格:500×300×300(長××高)mm

2.整機重量:35 Kg

3.清洗艙規(guī)格:Φ165×L210 mm (耐熱玻璃)

4.清洗艙有效容積:4.5 L

5.輸入電源:220 V50 Hz

6.整機輸入功率:400 W

7.射頻輸出:0150 W(連續(xù)可調(diào))8.射頻頻率:13.56 MHz

9.數(shù)字式定時器范圍:099.99 min

10.極限真空度:60 Pa

11.二路浮子流量計:0.2~1.5L/min量程,方便二種氣體按比例混合

12.觀察窗:觀察清洗倉內(nèi)輝光狀態(tài)

13.常用工作氣體:空氣、氬氣、氮氣或混合氣體

型號規(guī)格:PDC-BGS

整機規(guī)格:600×550×1280(長×寬×高)mm

整機重量:120 Kg

反應(yīng)艙規(guī)格:Φ240×L340 mm (耐熱玻璃)

反應(yīng)艙有效容積:15 L

輸入電源:380(三相)V/50Hz

整機輸入功率:2000 W(含真空泵)

射頻功率:0~400W(連續(xù)可調(diào))

射頻頻率:13.56 MHz

數(shù)字定時器:0~99.99 min

極限真空度:50 Pa

二路浮子流量計:0.2~1.5 L/min 量程,方便二種氣體按比例混合

觀察窗: 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)

常用工作氣體: 空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等

型號規(guī)格:PDC-BGM

整機規(guī)格:600×600×1400(長×寬×高)mm

整機重量:300 Kg

反應(yīng)艙規(guī)格:380×380×380(長×寬×高)mm(不銹鋼)

反應(yīng)艙有效容積:50 L

輸入電源:380(三相)V/50Hz

整機輸入功率:2000 W(含真空泵)

射頻功率:0~400W(連續(xù)可調(diào))

射頻頻率:13.56 Hz

數(shù)字定時器:0~99.99 min

極限真空度: 50 Pa

浮子流量計: 0.1~1.6 L/min 量程

觀察窗: 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)

常用工作氣體: 空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等

型號規(guī)格:PDC-BGL

整機規(guī)格:750×780×1660(長×寬×高)mm

整機重量:400 Kg

反應(yīng)艙規(guī)格:600×470×470(長×寬×高)mm(不銹鋼)

反應(yīng)艙有效容積:110 L

輸入電源:380(三相)V/50Hz

整機輸入功率:2500 W(含真空泵)

射頻功率:0~1000W(連續(xù)可調(diào))

射頻頻率:13.56 MHz

數(shù)字定時器:0~99.99 min

極限真空度: 50 Pa

浮子流量計: 0.1~1.6 L/min 量程

觀察窗: 觀察清洗艙內(nèi)輝光狀態(tài)

常用工作氣體: 空氣、氬氣、氮氣或混合氣體等

可根據(jù)用戶需要設(shè)計制作國產(chǎn)專用等離子清洗及處理設(shè)備。

主要特點:

整機一體化、結(jié)構(gòu)緊湊、安裝方便。

常溫條件下對樣品進行非破壞性超清洗。

徹底清除樣品表面的有機污染物。

氣體清洗介質(zhì)使樣品清洗后無二次污染。

設(shè)備操作簡單方便,使用成本極低,易于維護。

具有表面清洗、表面活化、表面刻蝕和表面沉積的功能。

應(yīng)用領(lǐng)域:

LED、LCD、PCB、觸電子生產(chǎn)領(lǐng)域中的超清洗。

移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì),去除金屬材料表面的氧化物。

清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板、ATR元件、人工晶體、天然晶體和寶石。

封裝領(lǐng)域中的清洗和改性,增強其粘附性,適用于直接封裝殛粘和。

涂覆鍍膜領(lǐng)域中對玻璃、塑料、陶瓷、高聚合物等材料表面改性,使其活化,增強

表面粘附性、浸潤性、相容性,顯著提高涂覆鍍膜質(zhì)量。

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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