看了等離子刻蝕機的用戶又看了
虛擬號將在 180 秒后失效
使用微信掃碼撥號
總部位于德國柏林科技園區(qū)的SENTECH儀器公司,已成為光伏生產(chǎn)設(shè)備世界市場之 一.我們是一家快速發(fā)展的中型公司,擁有60多名員工,他們是我們有價值的資產(chǎn)我們団 隊的每個成員都為公司的成功做出貢獻,我們總是在尋找與我們志同道合的新工作伙伴,我 們誠摯期待您的加入。
等離子刻蝕設(shè)備
ICP-RIE等離子刻蝕機SI500
產(chǎn)品介紹
高端等離子刻蝕設(shè)備SI 500使用低離子; 能量的電感耦合等離子體用于低損傷刻: 蝕和納米結(jié)構(gòu)刻蝕。
通過在廣泛的溫度: 范圍內(nèi)的動態(tài)溫度控制確保了可重復(fù)且穩(wěn)定的等離子刻蝕條件。深反應(yīng)等離子;
刻蝕(硅,III-V族半導(dǎo)體,MEMS)可: 采用低溫工藝和室溫下的氣體切換工藝: 來實現(xiàn)。
特點
*低損傷刻蝕 ?高速刻蝕
*自主研發(fā)的ICP等離子源
*動態(tài)溫度控制
RIE等離子刻蝕機Etchlab 200
產(chǎn)品介紹:
經(jīng)濟型等離子刻蝕設(shè)備EtchLab 200具備 低成本效益高的特點,并且支持揭蓋直接 放置樣片。
EtchLab 200允許通過載片 器,實現(xiàn)多片工藝樣品的快速裝載,也可 以直接快速地把樣品裝載
在電極上。RIE等離子體刻蝕設(shè)備具備占地面積小, 模塊化和靈活性等設(shè)計特點.
特點
*低成本效益高
*升級擴展性
*SENTECH控制軟件
RIE等離子刻蝕機SI 591
產(chǎn)品介紹
SI 591特別適用于采用氟基和氣基 :氣體的工藝,可以通過預(yù)真空室和電 :腦控制的等離子
工藝系統(tǒng)實現(xiàn)。SI 591的特點是占地空間小,高度靈活性,
例如,SI 591可作為單一反應(yīng)腔系統(tǒng)集成在多腔系統(tǒng)中。
特點
工藝靈活性
*占地面積小且模塊化程度高
*SENTECH控制軟件
暫無數(shù)據(jù)!