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日立Hitachi離子濺射儀MC1000
日立Hitachi離子濺射儀MC1000

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產地

日本

樣本

暫無
深圳市藍星宇電子科技有限公司

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日立Hitachi 離子濺射儀 MC1000

特點:

。采用LCD觸摸屏,可以更加簡便地設定加工條件

??商幚磔^厚或較大的樣品(選配件)

。記憶功能可存儲常用加工條件

規(guī)格:

項目說明
放電:類型:磁控二極管放電型(電場垂直于磁場)
電極組成:反向平行盤(嵌入磁鐵)
電壓:** 0.4 kV DC(直流可變)
電流:** 40 mA DC
噴鍍速率 *1(**):

[條件]:

壓力:7 Pa

放電電流:40 mA

標靶與樣品表面之間的距離:20 mm

Pt 靶(選配件):15 nm/min
Pt-Pd 靶(選配件):20 nm/min
Au 靶(選配件):35 nm/min
Au-Pd 靶(選配件):25 nm/min
樣品尺寸:**直徑:φ60 mm
**高度:20 mm
機械泵:135/162 l/min (50/60Hz)
靶材*2:Pt , Pt-Pd (8:2) , Au , Au-Pd (6:4)
電源要求:單相, 100 V AC (±10%) 15 A (50/60 Hz), 3-針插頭線纜(3 m)
尺寸:寬度:450 mm
長度:391 mm
高度:390 mm
重量:主機:約 25 kg

機械泵:約 28 kg

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