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HHV BT150和BT300
適用于電鏡樣晶制備以及其他常規(guī)科研用途的新型臺(tái)式鍍膜設(shè)備
技術(shù)信息:
BT150
新型設(shè)計(jì)的HHV BT150和BT300是面向電鏡工作者及科學(xué)研究者需求的經(jīng)濟(jì)型臺(tái)式鍍膜系統(tǒng)。BT150己具有電鏡工作者所需
的全面鍍膜能力, 而BT300配置了更大的真空腔室, 可滿足更廣泛的其他常規(guī)科研鍍膜應(yīng)用。
通常情況下, 這些系統(tǒng)采用金屬濺射來制備SEM樣品, 而采用碳纖維(或碳棒)蒸發(fā)來制備TEM樣品。碳蒸發(fā)鍍膜也可以用
于×射線微區(qū)分析的樣品。
BT系列系統(tǒng)還可配置成適合于常規(guī)科學(xué)研究需求的金屬濺射及金屬蒸發(fā)能力。
具有自動(dòng)樣晶鍍膜能力的觸摸屏操控系統(tǒng)
為了使用方便, 這兩款BT設(shè)備都配置了彩色的、 高分辨率的觸摸屏操控系統(tǒng)??刂葡到y(tǒng)可存儲(chǔ)多達(dá)30個(gè)工藝配方程序, 可隨
時(shí)調(diào)用執(zhí)行??刂葡到y(tǒng)能向外輸出工藝數(shù)據(jù) 便于存儲(chǔ)及分析。它還能自動(dòng)識(shí)別所安裝的工藝附件。
種類繁多的可選樣晶臺(tái)
BT系列設(shè)備具有多種樣品臺(tái)可供選擇。用于承載SEM樣品座的靜態(tài)樣品臺(tái)具有水冷功能, 可防止樣品過熱, 而且還含有濺射
刻蝕及清洗的裝置。使用刻蝕裝置可以提高某些樣品的圖像對(duì)比度, 而不太脆弱的樣品還能通過刻蝕來去除吸附的水汽, 從而改善薄膜附著力。
BT150可選擇旋轉(zhuǎn)甚至行星運(yùn)動(dòng)式設(shè)計(jì)的樣品臺(tái), **基片尺寸可達(dá)4英寸或者100mm。而BT300也可選擇類似的旋轉(zhuǎn)樣品臺(tái),其**基片尺寸可達(dá)8英寸或者200mm, 滿足更廣泛的研究需要。
集成的薄膜厚度測(cè)量?jī)x
BT系列設(shè)備的選項(xiàng)中包括全集成式的薄膜厚度監(jiān)測(cè)系統(tǒng)。該系統(tǒng)集成在觸摸屏控制器內(nèi), 可提供濺射膜厚的控制。
簡(jiǎn)單的靶材更換
BT150和BT300采用簡(jiǎn)單快速的靶材更換設(shè)計(jì), 在必要時(shí)可對(duì)樣品進(jìn)行不同材料的鍍膜。配置旋片泵的系統(tǒng)可以濺射惰性金屬,如金、 金/tE、 鈾和銅。增加可選的分子泵之后, 這兩款系統(tǒng)還能濺射容易氧化的金屬, 比如鋁。
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