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美國NANOVEA HS1000型三維表面形貌儀
美國NANOVEA HS1000型三維表面形貌儀

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德國

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深圳市藍星宇電子科技有限公司

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產(chǎn)品詳情

美國NANOVEA三維表面形貌儀HS1000型

產(chǎn)品簡介

HS1000型三維表面形貌儀是一款高速的三維形貌儀,**掃描速度可達1m/s,采用國際**的白光共聚焦技術(shù),可實現(xiàn)對材料表面從納米到毫米量級的粗糙度測試,具有測量精度高,速度快,重復性好的優(yōu)點,該儀器可用于測量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場使用。

產(chǎn)品特性

采用白光共聚焦色差技術(shù),可獲得納米級的分辨率

測量具有非破壞性,測量速度快,精確度高

測量范圍廣,可測透明、金屬材料,半透明、高漫反射,低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…);

尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面

不受樣品反射率的影響

不受環(huán)境光的影響

測量簡單,樣品無需特殊處理

Z方向,測量范圍大:為27mm

主要技術(shù)參數(shù)

掃描范圍:400mm×600mm(**可選600mm*600mm)

掃描步長:5nm

掃描速度:1m/s

Z方向測量范圍:27mm

方向測量分辨率:2nm

產(chǎn)品應用

MEMS、半導體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料,光學元件、陶瓷和先進材料的研發(fā)

主要用于

--生產(chǎn)現(xiàn)場三維形貌測試的理想選擇

--高速三維表面形貌檢測

美國NANOVEA HS1000型三維表面形貌儀

產(chǎn)品簡介

HS1000型三維表面形貌儀是一款高速的三維形貌儀,**掃描速度可達1m/s,采用國際**的白光共聚焦技術(shù),可實現(xiàn)對材料表面從納米到毫米量級的粗糙度測試,具有測量精度高,速度快,重復性好的優(yōu)點,該儀器可用于測量大尺寸樣品或質(zhì)檢現(xiàn)場使用。

產(chǎn)品特性

采用白光共聚焦色差技術(shù),可獲得納米級的分辨率

測量具有非破壞性,測量速度快,精確度高

測量范圍廣,可測透明、金屬材料,半透明、高漫反射,低反射率、拋光、粗糙材料(金屬、玻璃、木頭、合成材料、光學材料、塑料、涂層、涂料、漆、紙、皮膚、頭發(fā)、牙齒…);

尤其適合測量高坡度高曲折度的材料表面

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測量簡單,樣品無需特殊處理

Z方向,測量范圍大:為27mm

主要技術(shù)參數(shù)

掃描范圍:400mm×600mm(**可選600mm*600mm)

掃描步長:5nm

掃描速度:1m/s

Z方向測量范圍:27mm

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MEMS、半導體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料,光學元件、陶瓷和先進材料的研發(fā)

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