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日本Advance Riko 超高溫高速退火爐：
。桌面式：HT-RTA59HD
。帶水淬：CAS-59AQ
產(chǎn)品介紹：
HT-RTA59HD 這款桌面式超高溫高速退火爐以大功率點(diǎn)聚焦加熱以及超高反射效率可以在10s內(nèi)將15mm×15mm的試樣加熱到1800℃，對(duì)SiC以及其它高熔點(diǎn)材料進(jìn)行退火處理。
應(yīng)用：
• SiC氧化膜的生成和激活；
• 半導(dǎo)體開發(fā)與研究；
• 玻璃基板、陶瓷、復(fù)合材料等的熱處理；
• 作為熱處理爐對(duì)高熔點(diǎn)材料進(jìn)行熱處理；
• 陶瓷材料的熱沖擊測(cè)試。
特點(diǎn)：
?？梢栽?0s內(nèi)加熱到超高溫1800℃；
?？梢约訜岷笾苯铀?；
。紅外線燈加熱提供清潔加熱減少灰塵和氣體的生成；
。緊湊的桌面型設(shè)計(jì)；
。通過USB與電腦連接，輸入溫度參數(shù)；
。在加熱過程中，在電腦屏幕顯示溫度。
帶水淬的型號(hào)：CAS-59AQ
設(shè)備參數(shù)：
溫度范圍 | 室溫-1800℃ |
樣品尺寸 | W15mm×L15mm×T1mm |
樣品支架 | 氧化鋁或者高純碳 |
加熱氛圍 | 多種 |
熱電偶 | JIS B φ0.3 （W-Re可選） |
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