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美國(guó) Nano-master ALD/PEALD原子層沉積機(jī)NLD-4000

NLD-4000是一款獨(dú)立式計(jì)算機(jī)控制的ALD系統(tǒng)，全自動(dòng)工藝控制并包含完整的安全連鎖功能，能夠沉積半導(dǎo)體應(yīng)用中的氧化物和氮化物（比如AlN， GaN， TaN， TiN， Al2O3， ZrO2， LaO2， HfO2），支持太陽能和MEMS等眾多領(lǐng)域的應(yīng)用。

系統(tǒng)包含一個(gè)13”的鋁質(zhì)反應(yīng)腔體，具有加熱腔壁和氣動(dòng)升降頂蓋，可一鍵式實(shí)現(xiàn)頂蓋的開啟/閉合，便于放取片。隨系統(tǒng)配套手套箱，可以支持*多七路加熱或冷卻的50cc容器用于前驅(qū)體或者反應(yīng)物，并集成了快速脈沖傳輸閥用于氣體脈沖輸出。沒有反應(yīng)掉的前驅(qū)體將被加熱過濾器所捕捉，該過濾器安裝在腔體排風(fēng)口。

工藝程序、溫度設(shè)定值、氣體流量、抽真空卸真空工序，以及傳輸管路的吹掃均通過LabView軟件全自動(dòng)控制。

選配項(xiàng)包含自動(dòng)上下片（系統(tǒng)占地面積不變）、遠(yuǎn)程平面ICP等離子源用于等離子增強(qiáng)ALD（平面ICP的構(gòu)造確保小的反應(yīng)腔體容積，這實(shí)現(xiàn)更快的循環(huán)時(shí)間），以及渦輪分子泵用于更低的極限真空。

特點(diǎn):

**低于1?的均勻度

** 優(yōu)化的13”陽極氧化鋁腔體

** 小反應(yīng)腔體容積確?？焖俚难h(huán)時(shí)間并提高產(chǎn)能

** **可支持8”的基片

** 400°C基片加熱器

** 隨系統(tǒng)配套前驅(qū)體手套箱

** 做多支持七路50cc前驅(qū)體容器

** 300L/Sec抽速的磁懸浮分子泵組

** 極限真空可達(dá)5x10-7Torr

** 快速脈沖氣體傳輸閥

** 大面積過濾器用于捕捉未反應(yīng)的前驅(qū)體

** 高深寬比結(jié)構(gòu)的涂覆

** 全自動(dòng)計(jì)算機(jī)控制，菜單驅(qū)動(dòng)

** LabVIEW友好用戶界面

** EMO和安全互鎖

** 占地面積僅24”x44”帶封閉面板的柜體對(duì)超凈間很理想

選配:

** 下游式平面ICP遠(yuǎn)程等離子源用于PE-ALD工藝

** RF離子源用于無需要求超高密度的PE-ALD工藝

** 自動(dòng)上下片

** 增加額外的前驅(qū)體

應(yīng)用:

** 高K介質(zhì)

** 疏水性涂覆

** 鈍化層

** 高深寬比擴(kuò)散阻擋層的銅連接

** 微流控應(yīng)用的保形性涂覆

** 燃料電池中諸如催化層的單金屬涂覆