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英國(guó)Oxford OpAL 開(kāi)放式樣品載入原子沉積（ALD）設(shè)備

緊湊型開(kāi)放式樣品載入原子層沉積（ALD）系統(tǒng)

OpAL提供了專業(yè)的熱ALD設(shè)備，可以簡(jiǎn)單明了的升級(jí)使用等離子體，使得在同一緊湊設(shè)備中集成了等離子體和熱ALD。

開(kāi)放式樣品載入熱ALD，集成等離子體技術(shù)

現(xiàn)場(chǎng)升級(jí)到可使用等離子體

從小晶片到200mm大晶片

適用于學(xué)術(shù)、產(chǎn)業(yè)、研發(fā)的熱和/或等離子體化學(xué)產(chǎn)品，可用于：

氧化物： HfO2， Al2O3， TiO2， SiO2， ZnO， Ta2O5

氮化物：TiN， Si3N4

金屬： Ru， Pt

ALD應(yīng)用舉例：

納米電子學(xué)

高k柵極氧化物

存儲(chǔ)電容器絕緣層-銅連線間的高縱橫比擴(kuò)散勢(shì)壘區(qū)

有機(jī)發(fā)光二極管和聚合物的無(wú)針孔鈍化層

鈍化晶體硅太陽(yáng)能電池

應(yīng)用于微流體和MEMS的高保形涂層

納米孔結(jié)構(gòu)的涂層

生物微機(jī)電系統(tǒng)

燃料電池

直觀性強(qiáng)的的軟件提高性能

使用與牛津儀器的值得信賴的Plasmalab ®產(chǎn)品家族相同的軟件平臺(tái)， OpAL的程序驅(qū)動(dòng)、多用戶級(jí)別、PC2000TM控制的軟件易于操作且可為快速ALD做相應(yīng)修改。