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PICOSUN P-200S Pro ALD生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)
PICOSUN P-200S Pro ALD生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

品牌

產(chǎn)地

芬蘭

樣本

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深圳市藍(lán)星宇電子科技有限公司

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第2年

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芬蘭PICOSUN 生產(chǎn)型原子層沉積機(jī)P-200S Pro ALD

技術(shù)參數(shù)

襯底尺寸和類(lèi)型:

。50 – 200 mm /單片

。156 mm x 156 mm 太陽(yáng)能硅片

。150 mm x 150 mm 顯示面板

工藝溫度:50 - 500 °C , 可選更高溫度

基片傳送選件

。氣動(dòng)升降(手動(dòng)裝載)

。半自動(dòng)裝載,用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)

。25片晶圓盒對(duì)盒式全自動(dòng)裝載(cassette-to-cassette),用PICOPLATFORM™200集群系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)

標(biāo)準(zhǔn): SEMI S2 認(rèn)證(認(rèn)證中)

前驅(qū)體:

。 液態(tài), 固態(tài), 氣態(tài), 臭氧源, 等離子體(*多4路氣體):

。前驅(qū)源余量傳感器,并提供清洗和裝源服務(wù)

。6根獨(dú)立源管線(xiàn),*多加載12個(gè)前驅(qū)體源(加上Plasma管路,共7根獨(dú)立源管線(xiàn))

重量 :790 kg

尺寸 :(W x H x D) 160 cm x 80 cm x 240 cm

可選件 :集群工具, PICOFLOW™ 擴(kuò)散增強(qiáng)器, 集成橢偏儀, QCM, RGA, N2發(fā)生器,尾氣處理器,定制設(shè)計(jì),與工廠(chǎng)軟件連接服務(wù)。

驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn) :。標(biāo)準(zhǔn)設(shè)備驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)為 Al2O3 工藝,

。其他工藝可具體協(xié)商:其他工藝、應(yīng)用具體驗(yàn)收標(biāo)準(zhǔn)如:

- 不均勻性

- 顆粒物含量

- 重金屬污染

- 電學(xué)性能

一個(gè)PICOPLATFORM™ 200真空集群系統(tǒng)由兩臺(tái)PICOSUN™ P-200S ALD設(shè)備組成,帶等離子體源PICOPLASMA™。

創(chuàng)新點(diǎn)

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10分

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10分

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10分

性?xún)r(jià)比

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