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英國(guó)Durham小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻機(jī)Microwriter ML3

小型臺(tái)式無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)是英國(guó)Durham Magneto Optics公司專為實(shí)驗(yàn)室設(shè)計(jì)開發(fā)，為微流控、SAW、半導(dǎo)體、自旋電子學(xué)等研究領(lǐng)域提供方便高效的微加工方案。

傳統(tǒng)的光刻工藝中所使用的鉻玻璃掩膜板需要由專業(yè)供應(yīng)商提供，但是在研發(fā)環(huán)境中，掩膜板的設(shè)計(jì)通常需要經(jīng)常改變。無(wú)掩膜光刻技術(shù)通過(guò)以軟件設(shè)計(jì)電子掩膜板 的方法，克服了這一問(wèn)題。與通過(guò)物理掩膜板進(jìn)行光照的傳統(tǒng)工藝不同，激光直寫是通過(guò)電腦控制一系列激光脈沖的開關(guān)，在光刻膠上直接曝光繪出所要的圖案。

Microwriter ML 3 是一款多功能激光直寫光刻系統(tǒng)，具有結(jié)構(gòu)小巧緊湊(70cm X 70cm X 70cm)，無(wú)掩膜直寫系統(tǒng)的靈活性，還擁有高直寫速度，高分辨率的特點(diǎn)。采用集成化設(shè)計(jì)，全自動(dòng)控制，可靠性高，操作簡(jiǎn)便。適用于各種實(shí)驗(yàn)室桌面。

產(chǎn)品特點(diǎn)

Focus Lock自動(dòng)對(duì)焦功能

Focus lock技術(shù)是利用自動(dòng)對(duì)焦功能對(duì)樣品表面高度進(jìn)行探測(cè)，并通過(guò)Z向調(diào)整和補(bǔ)償，

以保證曝光分辨率。

光學(xué)輪廓儀

Microwriter ML3 配備光學(xué)輪廓探測(cè)工具，用于勻膠后沉積層，蝕刻層，MEMS等前道結(jié)構(gòu)的形貌探測(cè)與套刻。

Z向**精度100 nm，方便快捷。

標(biāo)記物自動(dòng)識(shí)別

點(diǎn)擊“Bulls-Eye”按鈕，系統(tǒng)自動(dòng)在顯微鏡圖像中識(shí)別光刻標(biāo)記。

標(biāo)記物被識(shí)別后，將自動(dòng)將其移動(dòng)到顯微鏡中心位置。

別直寫前預(yù)檢查

軟件可以實(shí)時(shí)顯微觀測(cè)基體表面，并顯示預(yù)直寫圖形位置。通過(guò)實(shí)時(shí)調(diào)整位置、角度，

直到設(shè)計(jì)圖形按要求與有結(jié)構(gòu)重合，保證直寫準(zhǔn)確。

簡(jiǎn)單的直寫軟件

MicroWriter 由一個(gè)簡(jiǎn)單直觀的Windows界面軟件控制。工具欄會(huì)引導(dǎo)使用者進(jìn)行簡(jiǎn)單的布局設(shè)計(jì)、

基片對(duì)準(zhǔn)和曝光的基本操作。該軟件在Windows10系統(tǒng)下運(yùn)行。

Clewin 掩模圖形設(shè)計(jì)軟件

•可以讀取多種圖形設(shè)計(jì)文件（DXF， CIF， GDSII， 等）

•可以直接讀取TIFF， BMP 等圖片格式

•書寫范圍只由基片尺寸決定

直寫分辨率1μm

直寫分辨率0.6μm

微電極制備

微結(jié)構(gòu)制備

微流通道制備