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Harrick PDC-002
Harrick PDC-002

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型號

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產(chǎn)地

美國

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四川威斯派克科技有限公司

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Harrick等離子清洗機(jī)簡介
Harrick Plasma公司的等離子清洗器是一種小型化、非破壞性的超清洗設(shè)備。等離子清洗器采用氣體作為清洗介質(zhì),有效地避免了因液體清洗介質(zhì)對被清洗物帶來的二次污染。等離子清洗器外接一臺真空泵,工作時(shí)清洗腔中的等離子體輕柔沖刷被清洗物的表面,短時(shí)間的清洗就可以使有機(jī)污染物被徹底地清洗掉,同時(shí)污染物被真空泵抽走,其清洗程度達(dá)到分子級。等離子清洗器除了具有超清洗功能外,在特定條件下還可根據(jù)需要改變某些材料表面的性能,等離子體作用于材料表面,使表面分子的化學(xué)鍵發(fā)生重組,形成新的表面特性。對某些有特殊用途的材料,在超清洗過程中等離子清洗器的輝光放電不但加強(qiáng)了這些材料的粘附性、相容性和浸潤性,并可消毒和殺菌。等離子清洗器廣泛應(yīng)用于光學(xué)、光電子學(xué)、電子學(xué)、材料科學(xué)、生命科學(xué)、高分子科學(xué)、生物醫(yī)學(xué)、微觀流體學(xué)等領(lǐng)域。

應(yīng)用

清洗電子元件、光學(xué)器件、激光器件、鍍膜基片、芯片。

清洗光學(xué)鏡片、電子顯微鏡片等多種鏡片和載片。

移除光學(xué)元件、半導(dǎo)體元件等表面的光阻物質(zhì)。

清洗ATR元件、各種形狀的人工晶體、天然晶體和寶石。

清洗半導(dǎo)體元件、印刷線路板。

清洗生物芯片、微流控芯片。

清洗沉積凝膠的基片。

高分子材料表面修飾。

牙科材料、人造移植物、醫(yī)療器械的消毒和殺菌。

改善粘接光學(xué)元件、光纖、生物醫(yī)學(xué)材料、宇航材料等所用膠水的粘和力。

功能

對金屬、玻璃、硅片、陶瓷、塑料、聚合物表面的有機(jī)污染物 (如石蠟、油污、脫膜劑、蛋白等)進(jìn)行超清洗。

改變某些材料表面的性能。

使玻璃、塑料、陶瓷等材料表面活化,加強(qiáng)這些材料的粘附性、相容性和浸潤性。

清除金屬材料表面的氧化層。

對被清洗物進(jìn)行消毒、殺菌。

優(yōu)點(diǎn)

清除表面有機(jī)污染物。

清洗快速、操作簡便、使用和維護(hù)成本極低。

非破壞性、對被清洗物表面光潔度無損害。

綠色環(huán)保、不使用化學(xué)溶劑、無二次污染。

常溫條件下清洗,被清洗物的溫度變化微小。

能清洗各種幾何形狀、粗糙程度各異的表面。

產(chǎn)品名稱:Harrick PDC-002

產(chǎn)品編號:

產(chǎn)品規(guī)格:

型號規(guī)格:PDC—002

整機(jī)規(guī)格:9×18×11(長×寬×高)英寸 (228×457×279)mm反應(yīng)艙規(guī)格:Φ6×L6英寸耐熱玻璃 (Φ152×L152)mm

反應(yīng)艙有效容積:2.8L

輸入電源:220 V/50Hz

整機(jī)輸入功率:200 W

射頻輸出檔:低檔716V DC、10mA DC、7.16W/中檔720V DC、15mA DC、10.15W/高檔740V DC、40mA DC、29.6W

常用工作氣體:空氣、氬氣、氮?dú)饣蚧旌蠚怏w等

特征:緊湊的臺式設(shè)備,沒有RF幅射,符合CE安全標(biāo)準(zhǔn)。反應(yīng)艙蓋具備鉸鏈、磁力鎖及可視窗口。

選配件:石英等離子清洗艙

提供各自計(jì)量兩種不同氣體進(jìn)氣和監(jiān)測壓力的氣體計(jì)量混合器Plasma FloTM

需要:兼容的真空泵,*小速率為1.4 m3/hr,**極限為200 MTorr。

包括:1/8英寸NPT針閥束引入氣體和控制壓力

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