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基質(zhì)升華儀HTX
基質(zhì)升華儀HTX

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

HTX

品牌

產(chǎn)地

美國

樣本

暫無
通用實(shí)驗(yàn)科技(中國)有限公司

會(huì)員

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第2年

|

生產(chǎn)商

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一,產(chǎn)品設(shè)計(jì)原理:

在真空腔內(nèi),利用一個(gè)加熱板升華底部的基質(zhì),然后利用一個(gè)冷卻板將基質(zhì)沉積到樣品表面。所有這個(gè)過程發(fā)生在基質(zhì)的三相點(diǎn)以下,因此沒有涉及液態(tài)物質(zhì),從而減少了移位效應(yīng)。

二,產(chǎn)品技術(shù)優(yōu)勢(shì):

可以設(shè)定時(shí)間控制升華步驟;大部分基質(zhì)都可以在180s內(nèi)完成升華過程;適用于DHB, CHCA, SA, DAN, AA, Norhamane等基質(zhì);分辨率:升華能夠保證納米級(jí)的*小結(jié)晶尺寸;*小的移位效應(yīng):基質(zhì)噴涂過程中,跳過液態(tài)直接升華為氣態(tài),樣品的更多空間信息被完整保留;高效:一次處理即可完成基質(zhì)沉積。

三,產(chǎn)品梗概:

快速、簡(jiǎn)單、重復(fù)性好、移位效應(yīng)小

創(chuàng)新點(diǎn)

暫無數(shù)據(jù)!

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產(chǎn)品質(zhì)量

10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價(jià)比

10分
評(píng)論內(nèi)容
暫無評(píng)論!
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技術(shù)文章
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