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產(chǎn)品簡(jiǎn)介:高真空高溫爐系統(tǒng)適用于各類真空熔煉、真空退火、淬火以及真空釬焊等設(shè)備,設(shè)備從100℃-2000℃廣泛適用于真空冶金新材料的科研與小批量制備。
產(chǎn)品型號(hào) | GSL-QHRL-X真空釬焊爐 | ||
安裝條件 | 本設(shè)備要求在海拔1000m以下,溫度25℃±15℃,濕度55%Rh±10%Rh下使用。 1、水:設(shè)備配有自循環(huán)冷卻水機(jī),水溫小于25℃,水壓0.25-0.4Mpa,流量高于12 l/min(加注純凈水或者去離子水); 2、電:AC380V 50Hz,功率根據(jù)實(shí)際情況配置,波動(dòng)范圍:小于±6%,必須有良好接地(對(duì)地電阻小于2Ω); 3、氣:設(shè)備腔室內(nèi)需充注氮/氬氣(純度99.99%以上),需自備氮/氬氣氣瓶(自帶?10mm雙卡套接頭)及減壓閥 4、場(chǎng)地面積:設(shè)備尺寸2000mm×2000mm,承重1000kg以上 5、通風(fēng)裝置:需要(外排廢氣管道); | ||
技術(shù)參數(shù) | 1、極限真空度:≤6.67x10-5Pa (經(jīng)烘烤除氣后); 2、系統(tǒng)真空檢漏漏率:≤5.0x10-7Pa.l/S; 3、系統(tǒng)短時(shí)間暴露大氣并充干燥氮?dú)夂?,再開始抽氣,45分鐘可達(dá)到6.6x10-4Pa; | ||
基本參數(shù) | 1、真空室可立式或臥式; 2、真空室直徑尺寸:φ200-φ2000mm(根據(jù)客戶要求設(shè)計(jì)加工); 3、電阻加熱:?jiǎn)螀^(qū)加熱、雙區(qū)加熱、三區(qū)以及多區(qū)加熱; 電阻加熱材料:高溫鎢、鉬、鉭及石墨;一般溫度采用復(fù)合材料,鐵鉻鋁、鎳鉻等; 4、保溫方式及材料: 多層金屬屏保溫; 石墨筒或碳?xì)直兀?/span> 水冷屏保溫; 5、溫度:100℃-2300℃ | ||
產(chǎn)品規(guī)格 | 整機(jī)尺寸:1800mm×1200mm×2000mm; | ||
標(biāo)準(zhǔn)配件 | 1 | 電源控制系統(tǒng) | 1套 |
2 | 真空獲得機(jī)組 | 1套 | |
3 | 真空測(cè)量 | 1套 |
暫無(wú)數(shù)據(jù)!
產(chǎn)品質(zhì)量
售后服務(wù)
易用性
性價(jià)比