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產(chǎn)品型號

1英寸高真空磁控濺射頭HVMSS-SPC-1-LD

主要特點(diǎn)

1、采用高質(zhì)量的不銹鋼和陶瓷材料制作。

2、采用電磁場的有元計(jì)算法來設(shè)計(jì)永磁體，以得到較高的磁場強(qiáng)度和均勻分布。

3、磁體表面涂有保護(hù)層，以防止冷卻水的腐蝕，延長其使用壽命。

4、標(biāo)準(zhǔn)的HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配。

5、安裝采用標(biāo)準(zhǔn)真空接頭，便于操作。

6、靶材更換較為簡單，無需調(diào)整濺射頭的高度。

7、配有銅靶1塊。

技術(shù)參數(shù)

1、濺射頭直徑：?46.3mm

2、所用靶材：直徑1"±0.02"（25.4mm），**厚度1/8"（3mm）

3、磁環(huán)：NdFeB稀土永磁體

4、柄桿直徑：外徑3/4"

5、電路接頭：標(biāo)準(zhǔn)HN型接頭，可與DC和RF電源相匹配

6、所需功率：DC**250W，RF**100W

7、陰極濺射電流：**3A

8、陰極濺射電壓：200V-1000V

9、工作壓力范圍：1mtorr-1torr

10、濺射厚度均勻性：采用磁控濺射在氧化非晶硅片上沉積一個(gè)20nm的薄膜，直流功率150W，真空環(huán)境

10mtorr，1"銅靶，與基片距離75mm

11、水冷卻：水管接頭為外徑0.25"快插頭，所需水流量1/2GPM，進(jìn)水溫度<20℃

12、高真空快速接頭：為贈(zèng)送品，數(shù)量1個(gè)，內(nèi)徑為0.75"，可將濺射頭安裝在真空腔體上，真空腔體上的安裝

　　　　　　　　　 孔直徑為1"，真空腔體的壁厚不得大于1"

13、傾斜裝置：濺射頭相對于柄桿**可傾斜±45?，設(shè)有刻度線，可觀察到靶頭傾斜的角度

產(chǎn)品規(guī)格

尺寸：14"（355.6mm）；重量：1.36kg

可選配件

1、循環(huán)水冷機(jī)，流量為16L/min，水箱容積為6L。

2、100W小型手動(dòng)匹配型射頻電源RF-100-LD，可自行搭建濺射鍍膜儀。

主要應(yīng)用

在真空腔體中HVMSS-SPC-1-LD磁控濺射頭可制作各種薄膜，應(yīng)用如下：

薄膜涂覆、半導(dǎo)體器件、磁記錄介質(zhì)、超導(dǎo)薄膜、量子計(jì)算器件、MEMS、生物傳感器、納米技術(shù)、超晶格、顆粒膜、記憶合金、組合薄膜沉積、光學(xué)薄膜