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大方科技固定污染源氨逃逸連續(xù)在線監(jiān)測系統(tǒng)
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固定污染源氨逃逸在線分析系統(tǒng)

針對固定污染源氨逃逸在線監(jiān)測的技術(shù)要求,本產(chǎn)品結(jié)合大方科技在脫硝氨逃逸在線監(jiān)測的豐富經(jīng)驗,研制開發(fā)環(huán)保型氨逃逸在線監(jiān)測系統(tǒng),專用于固定污染源氨逃逸的實時在線監(jiān)測,并將數(shù)據(jù)實時傳送至DCS。設(shè)備改變傳統(tǒng)分體方式,采用一體化設(shè)計,占用空間小,安裝維護方便,測量精度高,滿足環(huán)保監(jiān)管要求。

環(huán)保專用、經(jīng)典技術(shù)和現(xiàn)代設(shè)計的結(jié)合

一、測量原理:

系統(tǒng)采用可調(diào)諧半導體激光吸收光譜(TDLAS)技術(shù)進行NH3的測量,以可調(diào)諧激光器作為光源,發(fā)射出特定波長激光束,穿過待測氣體,通過分析被測氣體中NH3分子吸收導致的激光光強衰減,根據(jù)朗伯比爾定律,氣體濃度與其吸收光強成比例關(guān)系,從而實現(xiàn)高靈敏快速精確監(jiān)測待測氣體中NH3濃度。因為激光譜寬特別窄(小于0.0001nm),且只發(fā)出待測氣體吸收的特定波長,使得測量不受測量環(huán)境中其它成分的干擾,相比其它復合光源而言,具有極高的測量精度。

二、測量方案:

根據(jù)固定污染源氨逃逸測量點溫度不高、測量濃度低、測量精度要求高等特點,方案沿用了大方科技經(jīng)典的近位抽取+多反長光程測量池技術(shù),并進行一體化設(shè)計,設(shè)備直接安裝在煙道上,空間占用小。

系統(tǒng)由取樣分析單元和儀表組成,一體化設(shè)計,安裝于煙道上,煙氣經(jīng)采樣探頭取樣后直接進入設(shè)備樣氣室進行測量分析,無須伴熱管線。采用抽取方式可以避免煙塵和煙道振動等對測量的影響。近位抽取方式則避免了伴熱管線傳輸造成的響應時間的影響。煙氣流經(jīng)管路及樣氣室全部采用高溫加熱,保證煙氣取樣過程中無氨氣吸附。分析單元采用多次反射樣氣室,測量光程可達20米,可大大提高檢測下限。

、產(chǎn)品主要特點:

1.采用國際先進的可調(diào)諧半導體激光光譜技術(shù),不受背景氣體、粉塵等因素干擾,實現(xiàn)快速、準確測量;

2.抽取氣體直接進入氣室,不需要經(jīng)過伴熱管線,煙氣接觸的流路全程高溫伴熱無冷點,避免氨氣吸附和損失,保證樣氣真實性;

3.內(nèi)置標準氣體參比模塊,并且進行動態(tài)的補償,實時鎖住氣體吸收譜線,不受溫度、壓力以及環(huán)境變化的影響,不存在漂移現(xiàn)象;

4.采用多次反射長光程測量技術(shù),光程可達20米,極大地提高測量精度和檢測下限;

5.模塊化設(shè)計,開機預熱后便可正常運行無需進行現(xiàn)場光路調(diào)試,安裝調(diào)試靈活方便;

6.改變傳統(tǒng)分體方式,采用一體化設(shè)計,占用空間??;

7.大方科技特有的樣氣室設(shè)計,**技術(shù),包含維護窗口,可以在不影響光路的情況下,對污染的光學器件進行清潔,讓維護更加快速方便。

四、典型應用:

電廠、水泥廠、玻璃廠、陶瓷廠、工業(yè)鍋爐等企業(yè)固定污染源氨逃逸監(jiān)測

煉焦企業(yè)固定污染源氨逃逸監(jiān)測

化工廠固定污染源氨逃逸監(jiān)測

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