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GDZT-200-200-30G密閉制冷加熱裝置簡介：
能夠提供冷源和熱源的循環(huán)裝置，工作范圍寬廣，用于制藥、化工、生物等行業(yè)，為反應釜、槽等提供熱源和冷源，也可用于其他設備的加熱和冷卻。
●分3個系統(tǒng)：制冷系統(tǒng)、加熱系統(tǒng)、預冷系統(tǒng)，三個系統(tǒng)可連續(xù)使用，也可分別單獨使用。
●快速加熱和冷卻，可連續(xù)升降溫。
●溫度控制范圍寬，全程不需要換導熱介質(zhì)，導熱介質(zhì)消耗少。
●全封閉循環(huán)系統(tǒng)，高溫時導熱流體不易揮發(fā)和氧化，低溫下不易吸入空氣中水分，可延長導熱流體的使用壽命。
●高溫冷卻、制冷功能，可以從高溫直接降溫（如可從200℃直接降溫）。
●制冷器換熱器采用全釬焊板式換熱器，占用空間小，換熱效率高。
●液位顯示功能，隨時監(jiān)控液位，避免缺液。
●高溫切斷、急停、延時、漏電、過流電、過熱等多重保護功能，充分保證使用安全。
●冷凝、預熱方式為風冷，節(jié)約水資源。
GDZT-200-200-30G密閉制冷加熱裝置典型應用：
●化工、制藥或生物領(lǐng)域雙層反應釜的溫度控制。
●攪拌罐的溫度控制。
●高壓反應釜的溫度控制。
●材料測試中的應用。
●微反應器技術(shù)領(lǐng)域的放大工藝過程的溫度控制。
●蒸餾系統(tǒng)的溫度控制。
●工藝過程中的溫度變化模擬控制。
●大型恒溫控制系統(tǒng)。
●小型恒溫控制系統(tǒng)。
●半導體設備的溫度控制。
●汽車工藝中熱測試平臺的溫度控制。
●真空室的溫度控制。
GDZT-200-200-30G密閉制冷加熱裝置技術(shù)參數(shù)：
型號 | GDZT-200-200-30G |
空載*低溫度(℃) | -30 |
使用溫度范圍(℃) | -30～200 |
**環(huán)境溫度 (℃) | ≤25 |
環(huán)境相對濕度(％) | ≤60 |
電源 | 380V±10％ 50Hz |
溫度顯示方式 | 數(shù)字式 |
傳感器分度號 | Pt100 |
儀表調(diào)節(jié)范圍(℃) | -30～200 |
設定方式 | 在使用溫度范圍內(nèi)任意設定 |
安全保護 | 延時、過電流、過熱 |
200℃時的制冷量(W) | 27800 |
0℃時的制冷量(W) | 21300 |
-10℃時的制冷量(W) | 15800 |
-20℃時的制冷量(W) | 6750 |
-25℃時的制冷量(W) | 3360 |
-30℃時的制冷量(W) | 2800 |
整機功率(kw) | 17.8 |
整機電流(A) | 46.8 |
加熱功率(W) | 10000 |
制冷機組制冷劑 | R404a |
循環(huán)泵流量(L/min) | 30 |
循環(huán)泵揚程(m) | 10 |
外循環(huán)接口 | 絲口連接：3/4吋，304 |
整機尺寸(mm) | 1365×950×1050 |
整機重量(kg) | 320 |
連接管 | 2根 4m（不銹鋼） |
技術(shù)文件 | 1套 |
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