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Apreo 的復(fù)合透鏡設(shè)計(jì)結(jié)合了靜電和磁浸沒技術(shù)，可產(chǎn)生****的高分辨率和信號選擇。這使得 Apreo 成為研究納米顆粒、催化劑、粉末和納米器件的理想平臺，并且不會降低磁性樣品性能。

Apreo 受益于獨(dú)特的透鏡內(nèi)背散射探測，這種探測提供材料對比度，即使在傾斜、工作距離很短或用于敏感樣品時(shí)也不例外。新型復(fù)合透鏡通過能量過濾進(jìn)一步提高了對比度并增加了用于絕緣樣品成像的電荷過濾?？蛇x低真空模式現(xiàn)在的樣品倉壓力為 500 Pa，可以對要求*嚴(yán)苛的絕緣體進(jìn)行成像。

通過這些優(yōu)勢（包括復(fù)合末級透鏡、高級探測和靈活樣品處理），Apreo 可提供出色的性能和多功能性，幫助您應(yīng)對未來的研究難題。

體驗(yàn) Apreo SEM 帶來的優(yōu)勢

√獨(dú)有的復(fù)合末級透鏡可在任何樣品（即使在傾斜時(shí)或進(jìn)行地形測量時(shí)）上提供優(yōu)異的分辨率（1 kV 電壓下為 1.0 nm），而無需進(jìn)行電子束減速。

√ 作用極大的背散射探測 - 始終保證良好的材料對比度，即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進(jìn)行 TV 速率成像時(shí)也不例外。

√ 無比靈活的探測器 - 可將各個(gè)探測器部分提供的信息相結(jié)合，獲得至關(guān)重要的對比度或信號強(qiáng)度。

√各種各樣的電荷緩解策略，包括樣品倉壓力為 500 Pa 的低真空模式，可實(shí)現(xiàn)任何樣品的成像。

√**的分析平臺提供高電子束電流，而且光斑很小。樣品倉支持三個(gè) EDS 探測器、共面的 EDS 和 EBSD 以及針對分析進(jìn)行了優(yōu)化的低真空系統(tǒng)。

√樣品處理和導(dǎo)航極其簡單，具有多用途樣品支架和 Nav-Cam+。

√ 通過高級用戶指導(dǎo)、預(yù)設(shè)和撤消功能為新用戶提供專家級結(jié)果。

Apreo 材料科學(xué)應(yīng)用

新的 Apreo 掃描電子顯微鏡 (SEM) 可對納米顆粒、金屬、復(fù)合材料和涂層等多種材料進(jìn)行檢測，并且整合了創(chuàng)新功能，可提供更好的分辨率、對比度和易用性。

√ 獨(dú)有的復(fù)合末級透鏡可在任何樣品（即使在傾斜時(shí)或進(jìn)行地形測量時(shí)）上提供優(yōu)異的分辨率（1 kV 電壓下為 1.0 nm），而無需進(jìn)行電子束減速。

√ 作用極大的背散射探測 - 始終保證良好的材料對比度，即使以低電壓和電子束電流并以任何傾斜角度對電子束敏感樣品進(jìn)行 TV 速率成像時(shí)也不例外。

√ 無比靈活的探測器 - 可將各個(gè)探測器部分提供的信息相結(jié)合，獲得至關(guān)重要的對比度或信號強(qiáng)度。