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NIE-3500 (MC)離子束清洗系統(tǒng)產品概述:該系統(tǒng)為計算機全自動實現工藝控制的緊湊型獨立的立柜式離子束刻蝕系統(tǒng),具有結構緊湊、功能強大、自動化程度高、模塊化設計易于維護、低成本的優(yōu)勢。所有核心組件均為國際知名品牌。
NIE-3500 (MC)離子束清洗系統(tǒng)產品特點:
低成本
離子束:高達2KV/10mA
離子電流密度100-360uA/cm2
離子束直徑:4",5",6"
兼容反應及非反應氣體(Ar, O2, CF4,Cl2)
極限真空5x10-7Torr
260l/s渦輪分子泵,串接500 l/min干泵
14"不銹鋼或鋁質腔體
水冷旋轉/傾斜樣品臺(NIE-3500)
自動上下載片(NIE-3500)
基于LabView軟件的PC計算機全自動控制
占地面積30"x30"
NIE-3500 (MC)離子束清洗系統(tǒng)產品應用:
表面清洗
表面處理
離子銑
帶活性氣體的離子束刻蝕
光柵刻蝕
SiO2,Si和金屬的深槽刻蝕
NIE-3500 (MC)離子束清洗系統(tǒng)Features:
Low Cost
Ion Beam: Up to 2KV/10mA
Ion Current Density 100-360 μA/cm2
Ion Beam Size: 4”, 5”, 6”
Compatible with Reactive and Non-Reactive Gases (Ar, O2, CF4,Cl2)
Base Pressure 5x10-7 Torr
260 l/sec Corrosive Turbo Pump with 500 l/min Dry Scroll Pump
14” SS or Al Chambers
Water Cooled Rotating/Tilted Platen (NIE-3500)
Auto Load and Unload (NIE-3500)
PC Controlled with LabVIEW Software
Footprint 30”x30”
NIE-3500 (MC)離子束清洗系統(tǒng)Applications:
Surface Cleaning
Surface Treatment
Ion Beam Milling
Ion Beam Etching with Reactive Gases:
Grating
Deep Trenches on SiO2, Si and metals
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