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Plasma Cleaner等離子清洗/去膠機(jī)
NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)概述:NANO-MASTER 等離子清洗和灰化系統(tǒng)是專門設(shè)計(jì)用來滿足晶圓批處理或者單晶片處理的廣泛應(yīng)用,從晶圓的光刻膠剝離到表面改性都涉及到。該系列的設(shè)備采用PC控制,可以配套不同的等離子源,加熱或不加熱基片夾具,具有****的能力:可以從PE等離子刻蝕切換到RIE刻蝕模式,也就是說可以支持各向同性和各向異性的各種應(yīng)用。
NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)產(chǎn)品特點(diǎn)
緊湊型立式系統(tǒng)
自動(dòng)上下載片
帶Load Lock
不銹鋼、鋁制腔體或鐘罩式耐熱玻璃腔
兼容100級超凈間使用
淋浴頭、ICP或微波等離子源
旋轉(zhuǎn)樣品臺
RF偏壓可PID控制加熱到300 °C或冷卻的樣品臺
全自動(dòng)或手動(dòng)RF調(diào)諧
*多可支持8個(gè)MFC帶電拋光的氣體管路
PC計(jì)算機(jī)控制的氣動(dòng)閥
帶密碼保護(hù)的多級訪問控制
基于LabView軟件的PC計(jì)算機(jī)全自動(dòng)控制
機(jī)械泵的壓力可達(dá)到10mTorr
250 l/s的渦輪分子泵
極限真空為5x10-7Torr
完整的安全聯(lián)鎖
NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)應(yīng)用:
有機(jī)物以及無機(jī)物的殘留物去除
光刻膠剝離或灰化
去殘膠以及內(nèi)腐蝕(深腐蝕)應(yīng)用
清洗微電子元件,電路板上的鉆孔或銅線框架
提高黏附性,消除鍵合問題
塑料的表面改型:O2處理以改進(jìn)涂覆性能
產(chǎn)生親水或疏水表面
NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)Features:
Stand Alone System
Auto wafer Load/Unload with load lock
Stainless Steel, Aluminum or Bell Jar Chambers
Class 100 Clean Room Compatible
Shower Head, ICP or Microwave Plasma Sources
Rotating Platen
RF Biasable Heated up to 300 °C PID Controlled or Cooled Platen
Fully Automated or Manual RF tuning
Up to 8 Mass Flow Controllers with Electropolished Gas Lines
PC Controlled Pneumatic Valves
Multiple Levels of Access with Password Protection
PC Controlled with LabVIEW
Mechanical Pump with Pressure goes to 10 mTorr
250 l/sec Turbomolecular Pump
5x10-7 Torr Base Pressure
Fully Safety Interlocked
NPC-4000(A)全自動(dòng)等離子清洗/去膠機(jī)Applications:
Removal of Organic and Inorganic Materials without Residues
Photoresist Stripping or Ashing
Desmearing and Etch Back Applications
Cleaning Microelectronics, Drilled Holes on Circuit Boards or Cu Lead Frames
Adhesion Promotion, Elimination of Bonding Problems
urface Modification of Plastics: O2 Treatment for Paintability
Producing Hydrophilic or Hydrophobic Surfaces
暫無數(shù)據(jù)!