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FE-SPL高分辨場發(fā)射掃描探針光刻系統(tǒng)
FE-SPL高分辨場發(fā)射掃描探針光刻系統(tǒng)

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產(chǎn)地

德國

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溢鑫科創(chuàng)科技集團(tuán)

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德國Nano analytik成立于2010年4月,技術(shù)源自德國伊爾梅瑙科技大學(xué),是德國耶拿分析儀器股份有限公司分支企業(yè),公司的核心競爭力在于傳感器、微系統(tǒng)和控制技術(shù),公司宗旨是讓納米分析技術(shù)快速簡易化,在保證科研嚴(yán)謹(jǐn)性的同時(shí)提高科研效率。

德國Nano analytik研發(fā)了一款基于新型掃描探針的超高分辨掃描探針光刻SPL系統(tǒng)??稍诖髿猸h(huán)境下,高經(jīng)濟(jì)效益、快速直寫10納米以下結(jié)構(gòu)和制備納米級器件。該系統(tǒng)的閉環(huán)回路可實(shí)現(xiàn)使用同一掃描探針對納米結(jié)構(gòu)的成像、定位、檢測和操縱。

該高分辨場發(fā)射掃描探針光刻FE-SPL系統(tǒng)廣泛應(yīng)用于納米級微電子器件制備,納米操控,多工藝套刻,納米流體控制,超材料研究,納米光電器件,表面等離子激元,高分辨掩膜板或納米壓印模板的制備工作。

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