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EMS150 T離子濺射鍍膜儀的機(jī)殼是整體成型的,結(jié)構(gòu)堅(jiān)固耐用,配有氣冷的70L/S的渦輪分子泵,自動進(jìn)氣控制保證了濺射期間**的真空水平,真空腔室直徑為165mm并帶有防爆裝置。EMS150T具有“真空閉鎖”功能,可在設(shè)備不工作時(shí)維持腔室的真空度,從而保證高真空的性能。
EMS150 T離子濺射鍍膜儀系列全自動高真空離子濺射/熱蒸發(fā)一體化鍍膜儀給用戶以類似傻瓜相機(jī)的簡單操作、**的鍍膜質(zhì)量和對熟手/新手都很理想的用戶界面,讓用戶真正領(lǐng)略****的鍍膜品質(zhì)!
EMS150 T離子濺射鍍膜儀根據(jù)不同的應(yīng)用方向,EMS150T細(xì)分為三個(gè)型號:
EMS150TS:高分辨率濺射鍍膜儀High Resolution Turbomolecular Pumped Sputter Coater,可濺射易氧化和不易氧化金屬,可選各種濺射靶材,包括場發(fā)射電鏡常用的銥和鉻。
EMS150TE:高真空鍍碳儀,可制作高穩(wěn)定的碳膜和表面覆形膜,是TEM應(yīng)用*理想的選擇。
EMS150TES:集合了離子濺射和熱蒸鍍兩種真空沉積鍍膜方式,鍍膜頭可在幾秒內(nèi)快速更換,只能邏輯系統(tǒng)自動識別所裝的鍍膜頭類型,并顯示相應(yīng)的操作模式。
注:上述各型號都可配備如下可選的附件:金屬蒸鍍、碳絲蒸鍍、膜厚測量等
觸摸屏控制:
EMS150 T離子濺射鍍膜儀操作十分簡單,直觀的觸摸屏,即使*不熟練的操作者也可以自由操作,同時(shí)可方便的鍵入和存儲數(shù)據(jù)。為了方便使用,設(shè)備中已經(jīng)預(yù)存一些了典型的濺射和蒸發(fā)鍍膜參數(shù)資料。
鍍膜插入頭選項(xiàng):
具有一系列可互換、即插即用的鍍膜插入頭
濺射插入頭適用于易氧化和不易氧化金屬材料,直徑57mmX0.3mm厚鉻靶為標(biāo)準(zhǔn)靶材
可用另外的濺射插入頭來快速更換鍍膜材料(僅為TS和TES型號)
適用于3.05mm碳棒蒸發(fā)插入頭
適用于6.15mm碳棒蒸發(fā)頭,建議使用3.05mm直徑的碳棒,它們更容易控制、更經(jīng)濟(jì)
碳絲蒸發(fā)插入頭
金屬蒸發(fā)和光闌潔凈頭,包括向上蒸發(fā)或向下蒸發(fā)(僅為TE和TES型號)
樣品臺選項(xiàng)
EMS150T具有各種易更換的樣品臺,drop-in落入式設(shè)計(jì)具高度可調(diào)(除旋轉(zhuǎn)行星臺)。
標(biāo)準(zhǔn)配置為旋轉(zhuǎn)臺, 直徑為50mm
可預(yù)設(shè)傾斜角度的旋轉(zhuǎn)臺(可選)
可變角度旋轉(zhuǎn)行星臺(可選)
可用于4〞晶圓的平面旋轉(zhuǎn)臺(可選)
顯微鏡載玻片樣品臺(可選)
其它選項(xiàng)
用于高樣品的加高腔室
膜厚監(jiān)測器(FTM)
用于測量低和高真空的全范圍真空計(jì)
特點(diǎn)和優(yōu)點(diǎn):
金屬濺射或碳蒸發(fā)或兩者兼?zhèn)洌阂惑w化設(shè)計(jì),節(jié)約空間
精細(xì)顆粒濺射:高分辨率場發(fā)射掃描電鏡(FE-SEM)制樣的精細(xì)鍍膜應(yīng)用
渦輪分子泵高真空系統(tǒng):允許不氧化貴金屬和易氧化其它金屬靶材的濺射鍍膜,大大拓寬了可濺射靶材范圍,既適合普通SEM、高分辨率FE-SEM鍍膜制樣應(yīng)用,也為許多薄膜應(yīng)用等材料科研領(lǐng)域提供理想的鍍膜平臺
全自動觸摸屏控制:快速數(shù)據(jù)輸入,簡單操作
可儲存多個(gè)客戶自定義鍍膜方案:對多用戶實(shí)驗(yàn)室十分理想
與鍍膜過程和鍍膜材料相匹配的預(yù)編程自動真空控制
精細(xì)的厚度控制:使用膜厚監(jiān)控選項(xiàng)
“智能”式系統(tǒng)識別:自動感知用戶所裝的插入式鍍膜頭的類型
高真空碳蒸鍍:對SEM和TEM鍍碳膜應(yīng)用非常理想
蒸發(fā)電流波形控制
Drop-in落入式快換樣品臺(標(biāo)配旋轉(zhuǎn)臺)
真空閉鎖功能:可讓工作腔室處于真空狀態(tài),改善后續(xù)真空效果,或在真空條件下保存樣品
鍍制厚膜能力:一次真空條件下的濺射時(shí)間可長達(dá)60分鐘(材料科研領(lǐng)域的應(yīng)用)
人體工程學(xué)設(shè)計(jì)的整體成型機(jī)殼:易維護(hù)和易拆裝
帶有本地FTP服務(wù)器連接的以太網(wǎng)端口:簡單的程序更新
設(shè)有功率因素補(bǔ)償,有效利用電能,降低運(yùn)行成本
符合當(dāng)前電器法規(guī)(CE認(rèn)證)
EMS150 T離子濺射鍍膜儀儀器參數(shù):
儀器尺寸 | 585mm寬*470mm*410mm高(總高650mm) |
重量 | 33.4KG |
工作腔室 | 150mm(內(nèi)徑)*127mm(高)硼硅酸鹽玻璃腔室,并帶整體安全防護(hù)罩 |
觸摸屏用戶界面 | 帶有觸摸按鈕的全圖像界面,包含多達(dá)十個(gè)鍍膜程序,可提醒何時(shí)需要維護(hù) |
工作腔室 | 150mm(內(nèi)徑)*127mm(高)硼硅酸鹽玻璃腔室,并帶整體安全防護(hù)罩 |
樣品臺 | 轉(zhuǎn)速為8-20rpm的旋轉(zhuǎn)臺 |
真空系統(tǒng) | 渦輪子分子泵:帶有內(nèi)部空氣卻的渦輪分子泵,抽速為70L/s 旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵:抽速為50L/m的兩級旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵,帶有油污過濾器 |
真空測量 | 皮拉尼真空計(jì)作為標(biāo)配 |
極限真空度 | 10-5mbar兩級 |
電源需求 | 90-250V~50/60Hz 1400VA( 包括旋轉(zhuǎn)機(jī)械泵電壓240V) |
氣體 | 濺射工作氣體氬氣,99.999%(TS和TES版本);氮?dú)?,放氣破真空氣體(可選) |
金屬蒸發(fā)和光闌清潔頭 | 用于源自鎢絲籃或舟的金屬熱蒸發(fā)??膳鋫湟粋€(gè)標(biāo)準(zhǔn)鉬舟用于清潔SEM或TEM光闌 |
碳蒸發(fā) | 穩(wěn)定的無紋波直流電源控制的脈沖蒸發(fā),確保源自碳棒或碳絲的可重復(fù)蒸碳 |
電流脈沖 | 1-90安培 |
濺射 | 0-150mA??深A(yù)設(shè)膜厚(需FTM選項(xiàng))或使用內(nèi)置定時(shí)器 |
濺射工作真空范圍 | 5*10-3到5*10-1mbar |
濺射靶材和碳耗材供應(yīng) | EMS150TS和EMS150TES標(biāo)配鉻靶,但可選用的其它靶材范圍很寬,包括那些廣泛用于SEM制樣的靶材,如:Au金靶,Au/pd金鈀,Pt鉑靶,和Iridium銥靶。對非SEM應(yīng)用,可選用的靶材包括:AI鋁,Ta鉭,ITO氧化銦錫,F(xiàn)e鐵,W鎢,Ti鈦,等等:碳制品包括高純度碳絲。 |
暫無數(shù)據(jù)!