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EMS150 R離子濺射鍍膜儀
EMS150 R離子濺射鍍膜儀

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英國

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海德創(chuàng)業(yè)(北京)生物科技有限公司

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EMS150R 離子濺射鍍膜儀

新一代EMS 150R鍍膜儀(真空鍍膜儀/噴碳儀/蒸鍍儀)采用**技術(shù)研制而成,彩色觸摸液晶屏,快速的參數(shù)輸入,數(shù)種碳絲匹配,友好的用戶界面,帶給你不一般的操作感受!

EMS 150R離子濺射鍍膜儀提供3個版本的儀器:

lEMS150R S-噴金儀/離子濺射儀(適用于真空噴鍍非氧化型金屬,如金,鉑,鈀等)

lEMS150R E-噴碳儀/碳蒸鍍儀(適用于真空噴鍍碳膜,特別適用于SEM,用碳絲或碳繩)

lEMS150R ES-真空鍍膜儀(離子濺射儀和碳蒸鍍儀的結(jié)合體)

EMS 150R離子濺射鍍膜儀是一款多功能緊湊型機(jī)械泵抽真空鍍膜系統(tǒng),對于SEM樣品制備及其它鍍膜應(yīng)用非常理想。直徑為165mm的腔室可容納多種需要鍍膜的樣品,在SEM應(yīng)用中提高成像質(zhì)量。

EMS150R ES這個雙重用途、結(jié)構(gòu)緊湊、機(jī)械泵抽真空的鍍膜系統(tǒng)可提供****的多用途鍍膜,其標(biāo)配有濺射插入頭和碳絲蒸發(fā)插入頭??焖?、易更換的鍍膜插入頭,能在同一個緊湊設(shè)計中實(shí)現(xiàn)金屬濺射、碳蒸鍍和輝光放電三者之間的快速轉(zhuǎn)換。注意,輝光放電選項限EMS150R S和EMS150R ES可用,它可實(shí)現(xiàn)樣品表面改性(如疏水表面改為親水表面)。

EMS 150R離子濺射鍍膜儀采用全自動觸摸屏控制,可快速輸入數(shù)據(jù)。自動放氣控制功能確保了濺射期間**的真空狀態(tài),可提供良好的一致性和可重復(fù)性。

智能識別系統(tǒng)可自動探測安裝了何種類型的鍍膜插入頭,立即運(yùn)行相應(yīng)的鍍膜方案??纱鎯Χ鄠€用戶自定義的鍍膜方案,這對于需更改鍍膜參數(shù)實(shí)現(xiàn)不同應(yīng)用的多用戶實(shí)驗室非常理想。多種樣品臺組件適用于各種尺寸和類型的樣品;所有樣品臺都具有快速、易更換及落入式設(shè)計的特點(diǎn)。

可預(yù)編程的鍍膜參數(shù)及方案確保結(jié)果一致,具有可重復(fù)性。設(shè)計先進(jìn)的碳蒸鍍插入頭操作簡單,具有對蒸發(fā)電流參數(shù)的完全控制,確保了SEM應(yīng)用中一致的和可重復(fù)的碳沉積??蛇x的膜厚監(jiān)控附件用于可重復(fù)的膜厚控制。

濺射、碳蒸鍍、輝光放電插入頭及多種可選件,使EMS150R對于多用戶實(shí)驗室應(yīng)用非常理想。可濺射一系列非氧化性金屬,如金、銀、鉑和鈀等等。碳絲蒸鍍插入頭處理樣品速度非???。也可選用碳棒蒸發(fā)。還可應(yīng)用于金屬薄膜研究及電極的應(yīng)用。

EMS 150R離子濺射鍍膜儀濺射靶材或碳蒸發(fā)源的選用:

l金:常規(guī)SEM應(yīng)用時使用*普遍的靶材;濺射速度快且導(dǎo)電效果**。

l銀 :高導(dǎo)電性且具有高的二次電子發(fā)射率。濺射上去的銀易于去除,可使樣品成像后還原到其原來狀態(tài)。

l鉑 :在機(jī)械泵抽真空的濺射鍍膜系統(tǒng)中它的顆粒尺寸*小,且具有優(yōu)良的二次電子發(fā)射能力。

l鈀:用于x射線能譜分析非常理想,因其譜線分布沖突相對較低。

l金/鈀合金(80:20%):通過限制沉積期間金顆粒的團(tuán)聚,鈀可提高*終分辨率。

l碳絲蒸鍍:碳絲蒸鍍過程的閃蒸特性及快速更換碳絲的能力,使其處理樣品速度非??臁?

l碳棒蒸發(fā):用于需要減慢速度但可控性更好的蒸發(fā)過程,可制備更趨向無定形的碳膜。

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