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應用領(lǐng)域：
生物芯片領(lǐng)域
醫(yī)用材料、光學材料研究
電子半導體領(lǐng)域
高分子材料研究
電化學、高端零部件處理
有機材料的灰化、刻蝕
儀器性能：
自動調(diào)頻高頻發(fā)生器
內(nèi)置旋轉(zhuǎn)真空泵
此系統(tǒng)通常使用氧及氬的混合氣體，氧去除有機物質(zhì)（碳氫化合物），氬對樣品表面進行刻蝕
低溫等離子灰化、刻蝕、清洗 (0-150 watts RF)
真空監(jiān)測.
雙重氣流針閥控制
精確時間定時
微處理器程序設置
LCD狀態(tài)數(shù)字顯示
腔室為圓柱形，樣品裝載為抽屜式抽拉系統(tǒng)，樣本操作方便
聚碳酸脂安全防護
技術(shù)參數(shù)：
整機尺寸 | 450mm(W)x350mm(D)x300mm(H) |
工作腔室 | 派熱克斯玻璃 150mm(L)x100mm(Dia.) (硼硅酸鹽玻璃為標準配置) |
重量 | 25Kg |
等離子體輸出 | **150w，13.56 MHz 。 |
真空度 | >ATM to 1 x 10-5mbar；通常 0.5 mbar to 1.0 mbar. |
時間控制 | *長可設置99小時59分鐘 |
雙重氣流控制 | 雙重針閥氣流控制，可選1種或2種氣體（校準 5-100cm3/min air at A.T.P) |
電源 | 230 V， 50Hz (3 amp Max) |
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