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ES01是針對(duì)科研和工業(yè)環(huán)境中薄膜測(cè)量推出的高精度全自動(dòng)光譜橢偏儀，系列儀器的波長(zhǎng)范圍覆蓋紫外、可見(jiàn)到紅外。
ES01系列光譜橢偏儀用于測(cè)量單層和多層納米薄膜的層構(gòu)參數(shù)（如，厚度）和物理參數(shù)（如，折射率n、消光系數(shù)k），也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。
ES01系列光譜橢偏儀適合于對(duì)樣品進(jìn)行實(shí)時(shí)和非實(shí)時(shí)檢測(cè)。
ES01系列尤其適合于科研和工業(yè)產(chǎn)品環(huán)境中的新品研發(fā)。
ES01系列多種光譜范圍可滿足不同應(yīng)用場(chǎng)合。比如：
ES01系列可用于測(cè)量光面基底上的單層和多層納米薄膜的厚度、折射率n及消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：微電子、半導(dǎo)體、集成電路、顯示技術(shù)、太陽(yáng)電池、光學(xué)薄膜、生命科學(xué)、化學(xué)、電化學(xué)、磁介質(zhì)存儲(chǔ)、平板顯示、聚合物及金屬表面處理等。典型應(yīng)用如：
ES01系列也可用于測(cè)量塊狀材料的折射率n和消光系數(shù)k。應(yīng)用領(lǐng)域包括：固體（金屬、半導(dǎo)體、介質(zhì)等），或液體（純凈物或混合物）。典型應(yīng)用包括：
項(xiàng)目 | 技術(shù)指標(biāo) |
光譜范圍 | ES01V：370-1000nm ES01U：245-1000nm |
光譜分辨率 | 1.5nm |
單次測(cè)量時(shí)間 | 典型10s，取決于測(cè)量模式 |
準(zhǔn)確度 | δ(Psi): 0.02 ° ，δ(Delta): 0.04° （透射模式測(cè)空氣時(shí)） |
膜厚測(cè)量重復(fù)性（1） | 0.05nm (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
折射率精度（1） | 1x10-3 (對(duì)于平面Si基底上100nm的SiO2膜層) |
入射角度 | 40°-90°自動(dòng)調(diào)節(jié)，重復(fù)性0.02° |
光學(xué)結(jié)構(gòu) | PSCA（Δ在0°或180°附近時(shí)也具有極高的準(zhǔn)確度） |
樣品臺(tái)尺寸 | 可放置樣品尺寸：直徑170 mm |
樣品方位調(diào)整 | 高度調(diào)節(jié)范圍：0-10mm |
二維俯仰調(diào)節(jié)：±4° | |
樣品對(duì)準(zhǔn) | 光學(xué)自準(zhǔn)直顯微和望遠(yuǎn)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng) |
軟件 | •多語(yǔ)言界面切換 |
•預(yù)設(shè)項(xiàng)目供快捷操作使用 | |
•安全的權(quán)限管理模式（管理員、操作員） | |
•方便的材料數(shù)據(jù)庫(kù)以及多種色散模型庫(kù) | |
•豐富的模型數(shù)據(jù)庫(kù) | |
選配件 | 自動(dòng)掃描樣品臺(tái) 聚焦透鏡 |
注：(1)測(cè)量重復(fù)性：是指對(duì)標(biāo)準(zhǔn)樣品上同一點(diǎn)、同一條件下連續(xù)測(cè)量30次所計(jì)算的標(biāo)準(zhǔn)差。
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