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K-T G200/inSEM/iMicro/Nano納米壓痕劃
K-T G200/inSEM/iMicro/Nano納米壓痕劃

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此微納米力學(xué)原位測(cè)試系統(tǒng)可以對(duì),各種微納米薄膜、涂層材料或塊體材料微納米尺度上進(jìn)行壓痕、劃痕、摩擦磨損和原位掃描探針成像測(cè)試功能,通過(guò)軟件直接實(shí)現(xiàn)連續(xù)更換不同實(shí)驗(yàn)?zāi)J?,具有高分辨率,高控制精度,高穩(wěn)定性的特點(diǎn)。設(shè)備可直接測(cè)試出器件及各種微納米薄膜、涂層材料或塊體材料微納米尺度上在不同溫度下的硬度、表面粗糙度、薄膜厚度、楊氏模量、基底效應(yīng)、斷裂韌性、附著性能、抗磨損能力、儲(chǔ)能模量、損耗模量及損耗因子等。設(shè)備可直接觀測(cè)器件及各種納米薄膜涂層材料在微/納米尺度上的失效、斷裂、蠕變、摩擦磨損等各種力學(xué)行為的發(fā)生,結(jié)合上述工作對(duì)材料的制備工藝和服役性能進(jìn)行評(píng)價(jià)。應(yīng)用領(lǐng)域涵蓋了聚合物、復(fù)合材料、金屬、陶瓷、MEMS、生物材料等幾乎所有的材料領(lǐng)域。

美國(guó)KLA-Tencor公司是全球微納米力學(xué)(壓痕)測(cè)試設(shè)備的開(kāi)創(chuàng)者,全球**臺(tái)納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)于上世紀(jì)80年代初在此誕生,多種測(cè)量方法和物理模型都是來(lái)自該公司。經(jīng)過(guò)30多年不斷地努力和改進(jìn),目前該公司微納米力學(xué)測(cè)試不僅實(shí)現(xiàn)了靜態(tài)納米壓痕測(cè)試,同時(shí)實(shí)現(xiàn)了高水平的動(dòng)態(tài)納米壓痕測(cè)試和原位納米壓痕測(cè)試,當(dāng)前中華人民共和國(guó)納米壓痕測(cè)試標(biāo)準(zhǔn)GB/T 224582008GB/T 25898-2010均包括了KLA-Tencor 的連續(xù)剛度測(cè)量**技術(shù),在該領(lǐng)域具有很高的權(quán)威性,KLA-Tencor在連續(xù)剛度測(cè)試(CSM)、高分辨率、掃描成像、快速測(cè)試方面擁有獨(dú)有技術(shù)。KLA-Tencor是該領(lǐng)域知名的跨國(guó)公司,中國(guó)設(shè)立地區(qū)總部, 擁有高水平的專業(yè)技術(shù)支持和售后服務(wù)人員,國(guó)內(nèi)用戶得到很好的售后服務(wù)和技術(shù)支持,國(guó)內(nèi)主要高校和中科院下屬多個(gè)研究機(jī)構(gòu)以及測(cè)試中心均采購(gòu)該微納米力學(xué)測(cè)試系統(tǒng)。

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