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對天然的、富含雜質(zhì)的礦石物質(zhì)的拋光過程要比普通的巖石樣品拋光困難的多。對物質(zhì)的拋光要與該物質(zhì)的地質(zhì)屬性相一致，此設(shè)備磨拋不同巖石薄片其厚度可以精確調(diào)節(jié)。
該產(chǎn)品對樣品的拋光會在同一時(shí)間內(nèi)進(jìn)行三個方面的操作：
1）拋光盤的自動旋轉(zhuǎn)。 2)樣品夾持器自旋轉(zhuǎn)。 3)磨料自動滴入。
該設(shè)備同時(shí)處理1至5個樣品薄片，可以在幾分鐘內(nèi)同時(shí)完成打磨1個或5個樣品的**面。每個樣品都有單獨(dú)設(shè)置厚度的壓片器（5個樣品**尺寸是30X45mm; 3個樣品**尺寸是45X60mm）。
2) 拋光過程是定時(shí)控制，沒有其它外力干擾，運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)間可控，精確控制薄片厚度。
性能：
磨頭：1-5個
轉(zhuǎn)速：25到200rpm
標(biāo)準(zhǔn)樣品尺寸：30x45mm， 60x45mm，特定
計(jì)時(shí)器：1到60分鐘
拋光盤直徑：200mm， 硬度可調(diào)
多種拋光料：6um， 3um， 1um
50張拋光布：Φ200 mm
同時(shí)可以使用Φ150至Φ250 mm的拋光盤
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