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Janis 4K閉循環(huán)制冷機(樣品置于真空中)
Janis 4K閉循環(huán)制冷機(樣品置于真空中)

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型號

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產(chǎn)地

美國

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北京飛斯科科技有限公司

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Janis SHI-4系列4K制冷機種類齊全,可配置各種光學附件和電學接頭,滿足不同實驗對樣品冷卻的要求。真空罩底部有螺紋孔,匹配安裝法蘭,可方便地將恒溫器固定在任意方向。標準配置的制冷機系統(tǒng)高溫可到325K,可選配高溫到500K或800K。

標準型號("X"表示制冷機的制冷功率)

¨ SHI-4-X (光學)

¨SHI-4T-X (非光學)

¨SHI-4S-X (超級緊湊)

¨SHI-4XG-X (低振動)

¨SHI-4H-X (高溫)

標準配置

可選配置

●光學型真空罩和防熱輻射屏

BNC、SMA或多針電學接頭

4個O-ring密封石英窗

增加第五個窗口

鍍金無氧銅OFHC樣品托

旋轉(zhuǎn)真空罩

抽真空閥和安全閥

旋轉(zhuǎn)臺和定位臺

10針電學真空接頭

基質(zhì)隔離結(jié)構(gòu)

三個備用電學引入端口

防熱輻射窗

硅二極管溫度計和加熱器

●紅外或其他窗材

O-ring密封的真空外罩,方便裝卸

緊湊型或其他定制型真空罩

非光學型結(jié)構(gòu)

選配500K或800K高溫

SHI-4-X制冷機技術(shù)參數(shù)(含輻射熱負載):

技術(shù)參數(shù)

SHI-4-2

SHI-4-5

SHI-4

SHI-4-15

溫度范圍

<4.2K to 325K

<4.5K to 325K

<4K to 325K

<4K to 325K

初始降溫時間

120mins to 5K

90mins 到4.5K

60mins 到4K

60mins 到4K

冷頭制冷功率

0.2W @ 4.2K

0.5 W @ 4.2K

1 W @ 4.2K

1.5 W @ 4.2K

恒溫器質(zhì)量

36lbs.

53lbs.

62lbs.

63lbs.

壓縮機冷卻方式

風冷或水冷

水冷

風冷或水冷

風冷或水冷

*防熱輻射屏上帶四個開口(大多數(shù)型號可選配500K或800K高溫系統(tǒng))

標準配置的4K制冷機

SHI-4-2 SHI-4-4 SHI-4-5

SHI-4 SHI-4R SHI-4-15

其它結(jié)構(gòu)

樣品垂直/水平雙向旋轉(zhuǎn)的制冷機:

Janis可提供沿垂直或水平方向旋轉(zhuǎn)的樣品托。沿恒溫器軸向可進行±360°旋轉(zhuǎn),僅受氦氣管線和電纜的限制,精度約0.5°;沿水平方向可進行±90°旋轉(zhuǎn),精度<0.2°。系統(tǒng)配有四個冷窗,*低溫度可達~4K,是需要對樣品進行精確光學準直實驗的理想選擇。

SHI-4-15-UHV系統(tǒng):

圖示為RDK-415D2B冷頭,配有固定的8”CF法蘭,二級冷臺上裝有溫度傳感器和兩個筒狀加熱器。該系統(tǒng)為高真空環(huán)境而設(shè)計,可直接固定在用戶提供的UHV腔上,但并非真正的UHV系統(tǒng),其烘烤溫度只能達到60℃。

特殊型SHI-4XG-15-UHV系統(tǒng):

SHI-4XG-15-UHV系統(tǒng)為真正的超高真空(UHV)系統(tǒng),在交換氣體減振的情況下可烘烤至500K,可用于掃描探針顯微鏡測試。該系統(tǒng)配有特殊的防熱輻射冷窗,*低溫度可達3K。

特殊型1.5W制冷機系統(tǒng)用于冷卻氫氣:

SHI-4-15制冷機,配有CF法蘭,一級冷臺和二級冷臺上分別裝有熱交換器用于冷卻氫氣。該系統(tǒng)將直接安裝在用戶已有的真空腔上,與氫氣入口和出口管線相連。

高溫型4K制冷機:

該系統(tǒng)高溫可達500K,采用RDK-101D冷頭。

帶冷窗的4K制冷機:

配有光學冷窗的情況下,制冷功率為1.5W@4.2K的制冷機系統(tǒng)*低溫度可達3K。

SHI-4R-1基質(zhì)隔離系統(tǒng):

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10分

售后服務(wù)

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易用性

10分

性價比

10分
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