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Janis 4K
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典型應用-中子散射

SHI-4TSHI-950T系列4K制冷機可特殊設計應用于中子散射和衍射實驗。這些系統(tǒng)帶有鋁(或者釩)中子區(qū),將中子區(qū)壁厚減小,可**程度地減少中子束到達實驗樣品前的吸收,從而增大中子束穿過率。

SHI-4T-800中子散射用制冷機 SHI-950T中子散射用制冷機

選項包括:

樣品在真空或交換氦氣中

特殊的安裝法蘭匹配Goniometers

長尾部可到達深中子阱

大樣品區(qū)使得樣品到鋁壁間距離盡可能**

冷指處有4K屏蔽層

緊湊型設計滿足空間受限場合

可更換尾部

高溫選配至800K

特殊定制的SHI-950T,用于中子散射,溫度變化范圍從4K到800K,請查看圖紙:

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