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儀器簡介：

Torr international， Inc(拓爾國際)Magsput系列磁控濺射系統(tǒng)

Magsput磁控濺射系統(tǒng)是新一代磁控濺射系統(tǒng)，該款產(chǎn)品以其實(shí)用性強(qiáng)、定制和擴(kuò)展功能齊全而著稱于世，廣泛應(yīng)用于全球許多R&D實(shí)驗(yàn)室、大學(xué)研究、中試以及小規(guī)模生產(chǎn)中。緊湊型設(shè)計(jì)使得該款產(chǎn)品成為超凈室的理想選擇。該系統(tǒng)提供多種選件，如濺射槍的數(shù)量和尺寸，電源功率大小等。真空腔有多個備用端口，可用來增加磁控槍、熱阻源或電子束蒸發(fā)源。典型應(yīng)用包括納米技術(shù)、光學(xué)儀器、顯微鏡、分子束外延、功能薄膜和裝飾性涂層等。

技術(shù)參數(shù)：

磁控濺射系統(tǒng)標(biāo)準(zhǔn)配置

真空腔： 不銹鋼箱型真空腔，前開門上安裝一個4英寸觀察窗

真空系統(tǒng)： 渦輪分子泵組，配前級旋片泵和各種閥門接頭等，可獲得10-7Torr的真空。

真空讀出電路： 數(shù)字式全量程真空計(jì)

基片臺：直徑8”或更小尺寸基片臺

磁控源： 單個或多個2英寸磁控槍

電源功率： 300W高壓固態(tài)變功率電源

厚度監(jiān)控器：石英晶體厚度監(jiān)視器和速率控制器

尺寸：24” x 24” x 5’

重量： 500磅左右

質(zhì)保：一年

貨期：8周

選配：

真空腔：增加觀察窗個數(shù)或增大觀察窗尺寸

真空泵組：300-3000l/sec渦輪分子泵或冷凝泵，干泵或旋片泵

真空計(jì)：冷陰極或熱陰極離子規(guī)

磁控源：磁控槍的尺寸和數(shù)量

電源功率：DC和RF電源，可選1000W甚至更大

主要特點(diǎn)：

Torr international， Inc(拓爾國際)Magsput系列磁控濺射系統(tǒng)

Magsput磁控濺射系統(tǒng)是新一代磁控濺射系統(tǒng)，該款產(chǎn)品以其實(shí)用性強(qiáng)、定制和擴(kuò)展功能齊全而著稱于世，廣泛應(yīng)用于全球許多R&D實(shí)驗(yàn)室、大學(xué)研究、中試以及小規(guī)模生產(chǎn)中。緊湊型設(shè)計(jì)使得該款產(chǎn)品成為超凈室的理想選擇。該系統(tǒng)提供多種選件，如濺射槍的數(shù)量和尺寸，電源功率大小等。真空腔有多個備用端口，可用來增加磁控槍、熱阻源或電子束蒸發(fā)源。典型應(yīng)用包括納米技術(shù)、光學(xué)儀器、顯微鏡、分子束外延、功能薄膜和裝飾性涂層等。

優(yōu)良的薄膜質(zhì)量

該系統(tǒng)可以沉積多種材料的均勻的附著力強(qiáng)的薄膜，可沿多軸旋轉(zhuǎn)的基片臺便于在各種尺寸或形狀的樣品上形成均勻連續(xù)的薄膜。

實(shí)用性強(qiáng)，用途廣泛

可沉積Al，C，Cr，Au，Teflon，SiO2，Ta，W和Ti等各種材料。真空腔有多個備用端口方便將來的升級，比如增加電子束蒸發(fā)源和熱蒸發(fā)源等。

維護(hù)成本低

整套系統(tǒng)結(jié)構(gòu)設(shè)計(jì)合理，真空腔和基片臺等組件均采用長壽命真空元件。渦輪分子泵幾乎是零維護(hù)成本，而前級機(jī)械泵常規(guī)維護(hù)僅需要更換機(jī)油即可。

提供多種選項(xiàng)

可以根據(jù)用戶的要求和預(yù)算進(jìn)行定制：包括真空腔尺寸、基片臺尺寸、基片臺的加熱和冷卻（水冷或多種冷卻劑冷卻）、基片臺的旋轉(zhuǎn)和傾斜、渦輪分子泵或低溫泵等選項(xiàng)，可選擇延長質(zhì)保期等。