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SIG系列
小光源近場光線分布測量系統(tǒng)
特點 :
? 支持垂直光源及水平光源設置測量
? 提供亮度及顏色的近場測量模型
? 視覺范圍及分析的多光學結構配置
? 用集成影像數(shù)據來產生RSM的模型
? 穩(wěn)定性極高的LED光源及弧光光源精準測量模式
應用 :
? 測量待測光源所有角度近場光強度分布與色度
? 提供精確的射線組合提供光學設計套件軟件使用
? 提供光學設計與原型測試的近場模型
SIG-300
光源效率的精準模擬是需要經過研制計算的，光學設計、裝置的設計選項、裝置的篩選和質量控管以及亮度的設置，這些都需要經過直接且精確的測量實際上的光源效率。SIG-300 是光源影像式角度機，其可采集并匯集光源周圍多角度面向的亮度及顏色測量，這些光信號會匯整至Radiant Source Model(RSM) 進一步分析出光源的效率，這些分析數(shù)據可用來提供光學設計上使用。
SIG-300 透過堅固的機械設計、精準的光學配置及軟件控制來達到工業(yè)等級般的精準測量。SIG-300 可適用于一般大多數(shù)的光源，從LED 光源到中尺寸的光源測量，垂直方向或是水平方向的光源測量皆適用，并且有微小影像分析、標準影像分析及微小視覺范圍可
做選配。
RSM 是光源近場效率刻劃顯示的工業(yè)標準模型，它有著豐富的信息，可提供亮度值及色坐標數(shù)值，還可保存所有測量的影像，并且能夠使用ProSource® 的功能使其更精準，產生更完整的射線組合用來提供光學設計用的原型，減少光學設計時不必要的時間。
Radiant Imaging 提供完整全系列的光源影像式角度機，適用來量測LED 光源用的SIG-400 系列到大面積光源的SIG-310 系列機型。
SIG系列
小光源近場光線分布測量系統(tǒng)
? 大面積光源優(yōu)化測量
? 支援垂直光源及水平光源設置的測量
? 提供亮度及色度的近場模型
? 多樣光學結構配置強化視野范圍及分辨率
? 采用集成影像數(shù)據產生RSM模型
應用 :
? 測量大面積待測光源所有角度近場光強度分布
? 測量大面積光源近場色度分布等特性
? 提供精確的射線組合提供光學設計套件軟件使用
SIG-310
光源近場亮度的精準測量和大面積光源的顏色分布需要精準的光學、機械和軟件設計的組合，架構于Radiant Imaging 工業(yè)等級的SIG-300 及SIG-400 系統(tǒng)的設計上，SIG-310 系列實現(xiàn)高階的色度計，堅固的機械結構配置讓此系統(tǒng)能夠更精確更穩(wěn)定的量測，搭配容易使用的控制軟件，SIG-310 可以廣泛的適用于各種測量應用，不論是垂直光源的配置或是水平光源的配置皆可適用。
SIG-310 利用多視角來采集大面積光源亮度及色度的影像空間
結構來產生高準確的近場模型。
記錄在工業(yè)標準的Radiant Source Model(RSM) 格式內，這些數(shù)據使用ProSource® 軟件功能，可提供詳細的數(shù)據分析及數(shù)據輸出給大多數(shù)主要的光學設計套件，更精確的近場模型量測能產生更精準的射線配置而得到更好的光源系統(tǒng)設計。SIG-310適用于一般光源的測量，可用于研發(fā)或產品特性的測量。
SIG-400
因應LED 組件及光源應用的迅速成長，對于LED 組件及光源的發(fā)展研制、估算及光學設計來說，準確的LED 模型效能是必須的，這可透過低成本的方式來選擇組件設計、質量控制以及發(fā)光效率的設計等應用。
SIG-400 是光源影像式角度機，可采集和整理LED 光源或相似的小面積光源的多角度亮度及色度值，精準的刻劃出實際的光效率。匯總入Radiant Source Model(RSM) 的數(shù)據數(shù)據可進一步做光效率的分析和光學設計中射線的配置。
SIG-400 是對LED 光源的優(yōu)化測量系統(tǒng)，可減少系統(tǒng)的體積及降低成本，并簡化測量的工序；此外，也提供了多樣化的選配，如像素的分辨率、微觀視野、標準視野、巨觀視野的范圍選擇。
SIG-400 透過堅固的機械結構設計、精準的光學配置以及軟件控制，使其成為業(yè)界領導等級的準確量測系統(tǒng)，SIG-400 在測量整個待測件的時后能夠精準的定位到待測件的中心點，經測試后不超過15 微米，當量測LED 裸片時可讓測量錯誤降到*小。
特點 :
? LED芯片、顆粒及組件的優(yōu)化測量系統(tǒng)
? 多樣光學結構配置強化視野范圍及分辨率
? 提供亮度及色度的近場模型
? 用集成影像數(shù)據來產生RSM模型
應用 :
? 測量LED或是小面積光源所有角度近場光強度分布
? 測量LED或是小面積光源近場色度分布
? 提供光學設計與原型測試的近場模型
暫無數(shù)據！
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