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外延片PL譜掃描成像儀PL/PLE光致發(fā)光譜測量系統(tǒng)
外延片PL譜掃描成像儀PL/PLE光致發(fā)光譜測量系統(tǒng)

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韓國

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瞬渺科技(香港)有限公司

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儀器簡介:

外延片PL譜掃描成像儀用于快速在線檢測發(fā)光二極管外延片的質(zhì)量,主要用于發(fā)光二極管外延片和芯片生產(chǎn)線.生成高分辨率的圖譜和測定薄膜厚度等。本儀器為外延片生產(chǎn)工藝優(yōu)化控制提供快速可靠的數(shù)據(jù)反饋.為高效高質(zhì)量生產(chǎn)提供可靠保證。本成像儀現(xiàn)已成功應(yīng)用于多條LED外延片生產(chǎn)線上。逐點掃描檢測計算機(jī)分析計算外延片的積分光強(qiáng),主波長,峰值波長,光譜半寬等參數(shù)以繪圖形式顯示分布和數(shù)據(jù)截面分布囤,顯示單點光譜顯示各個參數(shù)的統(tǒng)計結(jié)果顯示選擇范圍的各項統(tǒng)計參數(shù)可進(jìn)行局部掃描,并對掃描結(jié)果進(jìn)行去孤立點和去邊處理采用白光反射譜測量薄膜厚度并以繪圖形式顯示分布和數(shù)據(jù)配備離線數(shù)據(jù)處理軟件本成像儀可靠。結(jié)構(gòu)緊湊。全部檢測和數(shù)據(jù)處理由計算機(jī)自動完成。采用用戶友好的窗口界面,操作簡便。用戶僅需*小的培訓(xùn)就可使用。另外可根據(jù)不同外延片,選配不同的激光器。

技術(shù)參數(shù):

1 、光致發(fā)光樣品腔

10x M-Plan鏡頭顏色修正,波長范圍:350-1800nm

工作距離:30.5mm, 20mm FL, z軸可調(diào)

系統(tǒng)空間分辨率:10微米(1微米選配)

鏡子帶孔洞作為激光束及PL信號的通道

Iris光圈用于激光束的調(diào)整

可變ND過濾器用于激光能量的控制(99% to 2%)

10毫米孔洞PL信號校準(zhǔn)鏡頭

馬達(dá)控制的XY臺,**速度30毫米/秒,1微米掃描分辨率

2 & 4外延晶片樣品盤

包括高分辨控制器和電纜

2、IG512近紅外光譜儀,900-1700nm, 512像素, InGaAs陣列

25um x 500um像素尺寸,14bits, 2.5MHz數(shù)字轉(zhuǎn)換器, f/4, 40mm FL

探測范圍:900nm全譜,300gr/mm, 1um blaze grating

包括SMA905, 400um多模光纖,1米長

3、EPP2000-VIS(350-1150nm)用于紫外-可見光,衍射光柵光譜儀

f/4, symX-Czerny-turner類型

分辨率:1.6nm (50um狹縫,@600gr/mm grating)

包括2048像素CCD探測器,12bit數(shù)字轉(zhuǎn)換器

600gr/mm grating

接口:USB-2&平行

SMA905光纖光學(xué)輸入,0.22NA,400um多模光纖,1米長

主要特點:

儀器特點

高品質(zhì)及中等價位的PL掃描系統(tǒng)(高性價比);

波長范圍寬廣(UV-VIS-NIR, 350nm to 2.2um);

噪聲低,高PL信號探測;

設(shè)計緊湊,易于調(diào)諧;

各種激發(fā)激光源可選;

易于發(fā)現(xiàn)峰及FWHM;

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10分

售后服務(wù)

10分

易用性

10分

性價比

10分
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