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NJ-QP990型直讀光譜儀品牌
南京諾金產(chǎn)地
江蘇樣本
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NJ-QP990型全譜直讀光譜儀采用標準的設(shè)計和制造工藝技術(shù),應(yīng)用了日本濱松公司先進的CMOS信號采集元件,每塊CMOS都可以單獨設(shè)值火花個數(shù),與好的光譜儀技術(shù)同步,采用真空光室設(shè)計及全數(shù)字激發(fā)光源。這款CMOS光譜儀,既包含了CCD光譜儀的全譜特性,又具備PMT光譜儀對非金屬元素的極低檢出限,整機設(shè)計合理,操作簡單易學(xué),具有數(shù)據(jù)精準,長期穩(wěn)定性好等優(yōu)點。
1.主要技術(shù)參數(shù)
高性能光學(xué)系統(tǒng) | 光學(xué)系統(tǒng)激發(fā)時產(chǎn)生的弧焰由透鏡直接導(dǎo)入真空光學(xué)室,實現(xiàn)光路直通,有效的降低光路損耗; |
采用高精度的CMOS元件可精確測定非金屬元素以及各種金屬元素含量; | |
測定結(jié)果精準,重復(fù)性期穩(wěn)定性好。 | |
自動光路校準 | 自動光路校準,光學(xué)系統(tǒng)自動進行譜線掃描,確保接收的正確性,免除繁瑣的波峰掃描工作; |
儀器自動識別特定譜線與原存儲線進行對比,確定漂移位置,找出分析線當(dāng)前的像素位置進行測定。 | |
插拔式透鏡設(shè)計 | 真空光學(xué)系統(tǒng)采用特別的入射窗與真空隔離,可在真空系統(tǒng)工作狀態(tài)下進行操作,光學(xué)透鏡采用插拔式透鏡結(jié)構(gòu),日常清洗維護方便快捷。 |
真空室一體化 | 特別的光室結(jié)構(gòu)設(shè)計,使真空室容積更小,抽真空時間僅普通光譜儀的1/2; |
真空室一體化設(shè)計及高精密的加工,使真空保持的更加持久。 | |
真空防返油技術(shù) | 多級隔離的真空防返油技術(shù),采用真空壓差閥門保證真空泵不工作時真空光室與真空完全隔離 |
中間增加了真空濾油裝置,確保真空泵中油不進入真空室,保障CMOS檢測器及光學(xué)元件在可靠環(huán)境中工作。 | |
開放式激發(fā)臺 | 開放式激發(fā)臺機靈活的樣品夾設(shè)計,以滿足客戶現(xiàn)場的各種形狀大小的樣品分析; |
配合使用小樣品夾具,線材分析可達到3mm。 | |
噴射電極技術(shù) | 用的噴射電極技術(shù),使用鎢材料電極,在激發(fā)狀態(tài)下,電極周圍會形成氬氣噴射氣流,這樣在激發(fā)過程中激發(fā)點周圍不會與外界空氣接觸,提高激發(fā)精度 |
配上特別的氬氣氣路設(shè)計,大大降低了氬氣使用量,也降低客戶使用成本。 | |
集成氣路模塊 | 氣路系統(tǒng)采用氣路模塊免維護設(shè)計,替代電磁閥和流量計,電極自吹掃功能,為激發(fā)創(chuàng)造了良好的環(huán)境。 |
數(shù)字化激發(fā)光源 | 數(shù)字激發(fā)光源,采用較好的等離子激發(fā)光源,超穩(wěn)定能量釋放在氬氣環(huán)境中激發(fā)樣品; |
全數(shù)字激發(fā)脈沖,確保激發(fā)樣品等離子體超高分辨率和高穩(wěn)定率輸出; | |
可任意調(diào)節(jié)光源的各項參數(shù),滿足各種不同材料的激發(fā)要求。 | |
高速數(shù)據(jù)采集 | 儀器采用高性能CMOS檢測元件,具有每塊CMOS單獨超高速數(shù)據(jù)采集分析功能,并能自動實時監(jiān)測控制光室溫度、真空度、氬氣壓力、光源、激發(fā)室等模塊的運行狀態(tài)。 |
以太數(shù)據(jù)傳輸 | 計算機和光譜儀之間使用以太網(wǎng)卡和TCP/IP協(xié)議,避免電磁干擾,光纖老化的弊端,同時計算機和打印機完全外置,方便升級和更換; |
可以遠程監(jiān)控儀器狀態(tài),多通路操控系統(tǒng)控制和監(jiān)控所有的儀器參數(shù)。 | |
預(yù)制工作曲線 | 備有不同材質(zhì)和牌號的標樣庫,儀器出廠時工廠預(yù)制工作曲線,方便安裝調(diào)試和及時投入生產(chǎn); |
根據(jù)元素和材質(zhì)對應(yīng)的分析程序而稍有差異,激發(fā)和測試參數(shù)儀器出廠時已經(jīng)調(diào)節(jié)好,根據(jù)分析程序可自動選擇合適的測試條件; | |
技術(shù)規(guī)格中附有分析范圍(并可根據(jù)用戶提供標樣免費繪制或延長工作曲線)。 | |
分析速度快 | 分析速度快,僅需20秒即可完成一次分析; |
針對不同的分析材料,通過設(shè)置預(yù)燃時間及測量時間,使儀器用短時間達到好的分析效果。 | |
多基體分析 | 光路設(shè)計采用羅蘭圓結(jié)構(gòu),檢測器上下交替排列,保證接收全部的譜線,不增加硬件設(shè)施,即可實現(xiàn)多基體分析; |
便于根據(jù)生產(chǎn)的需要增加基體及材料種類和分析元素(無硬件成本)。 | |
軟件中英文系統(tǒng) | 儀器操作軟件完全兼容于Windows7/8/10系統(tǒng); |
軟件操作簡單,即使沒有任何光譜儀知識及操作經(jīng)驗的人員只需經(jīng)過簡單的知識培訓(xùn)即可上手使用。 |
1. 供貨清單
特別聲明:買方知悉并同意,由于技術(shù)進步、產(chǎn)品升級、市場變化等原因引起的上述儀器部件、備件等生產(chǎn)及供貨廠商變動時,賣方可以調(diào)整供貨。
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三、技術(shù)配置
1. 規(guī)格和技術(shù)參數(shù)
項目 | 指標 |
檢測基體 | Fe、Al、Cu三種基體合金的成分測量 |
檢測時間 | 試樣品類型而定,一般20s左右 |
光學(xué)系統(tǒng) | 帕型-龍格 |
波長范圍 | 120~800nm |
工作電源 | (220±20)V AC,(50±1)Hz,保護性接地的單相電源 |
工作溫度 | (10~30)℃ |
存儲溫度 | (0~45)℃ |
工作濕度 | 20%~80% |
氬氣純度要求 | 99.999% |
氬氣進口壓力 | 0.5MPa |
氬氣流量 | 激發(fā)流量約3.5L/min,維持流量約0.4L/min,待機流量約0.1L/min, |
尺寸 | 長760mm,寬610mm,高1130mm |
重量 | 約168kg |
激發(fā)**功率 | 400VA |
待機平均功率 | 100VA |
光源類型 | 脈沖合成全數(shù)字光源(可編程脈沖全數(shù)字光源) |
放電頻率 | 高1000 Hz |
放電電流 | 大400A |
引燃點火脈沖 | 1~14kV |
火花激發(fā)脈沖 | 20~230V |
電弧激發(fā)脈沖 | 20~60V |
激發(fā)臺孔徑 | 13mm |
2. 光學(xué)系統(tǒng)
l 帕型-龍格結(jié)構(gòu)的全譜光學(xué)系統(tǒng)
l 波長范圍(120~800)nm
l 多個高性能CMOS探測器
l 耐環(huán)境溫度變化
l 一體化光室設(shè)計,CMOS探測器保證短波達到較好的性能
l 光室恒溫控制,恒溫溫度為35℃
3. 樣品激發(fā)臺
l 激發(fā)室的特殊設(shè)計,使樣品室/激發(fā)室的清理工作更加便利;
l 優(yōu)化的氬氣氣路設(shè)計保證激發(fā)臺的有效冷卻和激發(fā)過程中產(chǎn)生的金屬粉塵有效進入過濾器;使樣品激發(fā)更加穩(wěn)定,并大大減少了人體對金屬粉塵的攝入,有利于保護操作人員的健康安全;
l 更小的激發(fā)空間,使氬氣消耗更?。?/p>
l 便于使用的樣品夾具
l 具有電極自吹掃功能,使電極使用壽命更長、清潔電極更加容易
l 13 mm的激發(fā)孔徑更利于樣品分析
l 開放式樣品激發(fā)臺可適應(yīng)各種大小、更多形狀樣品的分析;
l 透鏡部分的結(jié)構(gòu)設(shè)計,使透鏡拆裝、擦拭更方便,氬氣的沖洗設(shè)計更可以延長透鏡清洗周期。
4. 數(shù)字光源
l 脈沖合成全數(shù)字光源(可編程脈沖全數(shù)字光源),頻率可達1000Hz;
l 高能預(yù)然技術(shù)(HEPS);
l 優(yōu)化設(shè)計的控制和功率電路,完善的激發(fā)安全保護功能
l 為不同分析目標提供好的火花、電弧或組合激發(fā)波形
l 頻率:(100~1000)Hz
l 放電電流:大400 A
5. 數(shù)據(jù)采集系統(tǒng)
l 高性能DSP處理器,具有超高速數(shù)據(jù)采集及控制功能
l 單火花采集及光譜延時采集,實現(xiàn)更優(yōu)化元素含量測量
l 外置式計算機(用戶自選)
l 高速以太網(wǎng)數(shù)據(jù)傳輸
6. 分析軟件
l 基于Windows操作系統(tǒng)的圖形化分析軟件,方便實用;
l 完備的自動系統(tǒng)診斷功能
l 完善的數(shù)據(jù)庫管理功能,可方便查詢、匯總數(shù)據(jù)
l 智能校正算法,保證儀器穩(wěn)定可靠
l 完備的譜線信息和干擾扣除算法,保證儀器分析更為精準
l 新的Windows操作系統(tǒng)
暫無數(shù)據(jù)!