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高真空磁控濺射儀
高真空磁控濺射儀

參考價(jià)格

面議

型號(hào)

高真空磁控濺射儀

品牌

鵬城半導(dǎo)體

產(chǎn)地

廣東

樣本

暫無(wú)
鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司

會(huì)員

|

第2年

|

生產(chǎn)商

工商已核實(shí)

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核心參數(shù)
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    -
  • 分辨率:

    -
  • 重現(xiàn)性:

    -
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    其他
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    -
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    -
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高真空磁控濺射儀(磁控濺射鍍膜機(jī))是用磁控濺射的方法,制備金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷、介質(zhì)復(fù)合膜及其它化學(xué)反應(yīng)膜等;適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜系及合金膜;可鍍制磁性材料和非磁性材料。


設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)特點(diǎn)

秉承設(shè)備為工藝實(shí)現(xiàn)提供實(shí)現(xiàn)手段的理念,我們做了如下設(shè)計(jì)和工程實(shí)現(xiàn),實(shí)際運(yùn)行效果良好,為用戶的專(zhuān)用工藝實(shí)現(xiàn)提供了精準(zhǔn)的工藝設(shè)備方案。

靶材背面和濺射靶表面的結(jié)合處理

-靶材和靶面直接做到面接觸是很難的,如果做不到面接觸,接觸電阻將增大,導(dǎo)致離化電場(chǎng)的幅值不夠(接觸電阻增大,接觸面的電場(chǎng)分壓增大),導(dǎo)致鍍膜效果不好;電阻增大導(dǎo)致靶材發(fā)熱升溫,降低鍍膜質(zhì)量。

-靶材和靶面接觸不良,導(dǎo)致水冷效果不好,降低鍍膜質(zhì)量。


-增加一層特殊導(dǎo)電導(dǎo)熱的軟薄的物質(zhì),保證面接觸。


距離可調(diào)整

基片和靶材之間的距離可調(diào)整,以適應(yīng)不同靶材的成膜工藝的距離要求。

 

角度可調(diào)

磁控濺射靶頭可調(diào)角度,以便針對(duì)不同尺寸基片的均勻性,做精準(zhǔn)調(diào)控。

 

集成一體化柜式結(jié)構(gòu)

一體化柜式結(jié)構(gòu)優(yōu)點(diǎn):

安全性好(操作者不會(huì)觸碰到高壓部件和旋轉(zhuǎn)部件)


占地面積小,尺寸約為:長(zhǎng)1100mm×寬780mm(標(biāo)準(zhǔn)辦公室門(mén)是800mm寬)(傳統(tǒng)設(shè)備大約為2200mm×1000mm),相同面積的工作場(chǎng)地,可以放兩臺(tái)設(shè)備。


控制系統(tǒng)

采用計(jì)算機(jī)+PLC兩級(jí)控制系統(tǒng)


安全性

-電力系統(tǒng)的檢測(cè)與保護(hù)

-設(shè)置真空檢測(cè)與報(bào)警保護(hù)功能

-溫度檢測(cè)與報(bào)警保護(hù)


-冷卻循環(huán)水系統(tǒng)的壓力檢測(cè)和流量

-檢測(cè)與報(bào)警保護(hù)


勻氣技術(shù)

工藝氣體采用勻氣技術(shù),氣場(chǎng)更均勻,鍍膜更均勻

基片加熱技術(shù)

采用鎧裝加熱絲,由于通電加熱的金屬絲不暴露在真空室內(nèi),所以高溫加熱過(guò)程中不釋放雜質(zhì)物質(zhì),保證薄膜的純凈度。鎧裝加熱絲放入均溫器里,保證溫常的均勻,然后再對(duì)基片加熱。


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10分

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10分

性?xún)r(jià)比

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