參考價(jià)格
面議型號(hào)
高真空磁控濺射儀品牌
鵬城半導(dǎo)體產(chǎn)地
廣東樣本
暫無(wú)誤差率:
-分辨率:
-重現(xiàn)性:
-儀器原理:
其他分散方式:
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-測(cè)量范圍:
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高真空磁控濺射儀(磁控濺射鍍膜機(jī))是用磁控濺射的方法,制備金屬、合金、化合物、半導(dǎo)體、陶瓷、介質(zhì)復(fù)合膜及其它化學(xué)反應(yīng)膜等;適用于鍍制各種單層膜、多層膜、摻雜膜系及合金膜;可鍍制磁性材料和非磁性材料。
設(shè)備關(guān)鍵技術(shù)特點(diǎn)
秉承設(shè)備為工藝實(shí)現(xiàn)提供實(shí)現(xiàn)手段的理念,我們做了如下設(shè)計(jì)和工程實(shí)現(xiàn),實(shí)際運(yùn)行效果良好,為用戶的專(zhuān)用工藝實(shí)現(xiàn)提供了精準(zhǔn)的工藝設(shè)備方案。
靶材背面和濺射靶表面的結(jié)合處理
-靶材和靶面直接做到面接觸是很難的,如果做不到面接觸,接觸電阻將增大,導(dǎo)致離化電場(chǎng)的幅值不夠(接觸電阻增大,接觸面的電場(chǎng)分壓增大),導(dǎo)致鍍膜效果不好;電阻增大導(dǎo)致靶材發(fā)熱升溫,降低鍍膜質(zhì)量。
-靶材和靶面接觸不良,導(dǎo)致水冷效果不好,降低鍍膜質(zhì)量。
-增加一層特殊導(dǎo)電導(dǎo)熱的軟薄的物質(zhì),保證面接觸。
距離可調(diào)整
基片和靶材之間的距離可調(diào)整,以適應(yīng)不同靶材的成膜工藝的距離要求。
角度可調(diào)
磁控濺射靶頭可調(diào)角度,以便針對(duì)不同尺寸基片的均勻性,做精準(zhǔn)調(diào)控。
集成一體化柜式結(jié)構(gòu)
一體化柜式結(jié)構(gòu)優(yōu)點(diǎn):
安全性好(操作者不會(huì)觸碰到高壓部件和旋轉(zhuǎn)部件)
占地面積小,尺寸約為:長(zhǎng)1100mm×寬780mm(標(biāo)準(zhǔn)辦公室門(mén)是800mm寬)(傳統(tǒng)設(shè)備大約為2200mm×1000mm),相同面積的工作場(chǎng)地,可以放兩臺(tái)設(shè)備。
控制系統(tǒng)
采用計(jì)算機(jī)+PLC兩級(jí)控制系統(tǒng)
安全性
-電力系統(tǒng)的檢測(cè)與保護(hù)
-設(shè)置真空檢測(cè)與報(bào)警保護(hù)功能
-溫度檢測(cè)與報(bào)警保護(hù)
-冷卻循環(huán)水系統(tǒng)的壓力檢測(cè)和流量
-檢測(cè)與報(bào)警保護(hù)
勻氣技術(shù)
工藝氣體采用勻氣技術(shù),氣場(chǎng)更均勻,鍍膜更均勻。
基片加熱技術(shù)
采用鎧裝加熱絲,由于通電加熱的金屬絲不暴露在真空室內(nèi),所以高溫加熱過(guò)程中不釋放雜質(zhì)物質(zhì),保證薄膜的純凈度。鎧裝加熱絲放入均溫器里,保證溫常的均勻,然后再對(duì)基片加熱。
暫無(wú)數(shù)據(jù)!