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成都真空設(shè)備 Research-磁控濺射鍍膜機(jī)
成都真空設(shè)備 Research-磁控濺射鍍膜機(jī)

參考價格

100-150萬元

型號

CM-010

品牌

超邁光電

產(chǎn)地

四川成都

樣本

暫無
成都漢普升科技有限公司

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第2年

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●該設(shè)備用于納米級單層或多層膜、類金剛石薄膜、金屬膜、導(dǎo)電膜、半導(dǎo)體膜和非導(dǎo)電膜等功能薄膜的制備,可實(shí)現(xiàn)共濺射,直流、射頻兼容,特別適于科研院所和企業(yè)進(jìn)行功能薄膜研發(fā)、教學(xué)和新產(chǎn)品開發(fā),同時可在微米級粉末或顆粒上沉積薄膜進(jìn)而達(dá)到表面改性的功能。是替代鐘罩式磁控濺射的理想選擇。

●主體結(jié)構(gòu):全封閉框架結(jié)構(gòu),機(jī)柜和主機(jī)為一體式機(jī)構(gòu)。

●極限真空度:≤6.63×10-5Pa,壓升率優(yōu)于國家標(biāo)準(zhǔn)。   

●真空配置:高速直聯(lián)旋片泵一臺,配置尾氣處理裝置,超高分子泵一臺。

●真空測量:兩路電阻規(guī),一路電離規(guī);電阻規(guī)和電離規(guī)均采用防爆型金屬封結(jié)真空規(guī)。

●工件架系統(tǒng):行星工件盤與公轉(zhuǎn)工件盤可選,垂直濺射與共濺射兼容,可配置1個加熱臺,采用PID控制可烘烤加熱到700℃。

●磁控濺射系統(tǒng):配置3個Φ50mm可折疊磁控靶(可擴(kuò)展至4靶機(jī)構(gòu)),向上濺射成膜;靶基距可調(diào);靶內(nèi)均通入冷卻水冷卻。

●電源:2套直流電源;1套全固態(tài)射頻電源;一套200W直流偏壓電源。

●充氣系統(tǒng):配置三路供氣,二路分別配置質(zhì)量流量控制器,線性±0.5 % F.S,重復(fù)精度±0.2% F.S,0-5V輸出,在觸摸屏上設(shè)置流量。

●電氣控制系統(tǒng):采用功能化模塊設(shè)計,匹配西門子人機(jī)界面+西門子控制單元,濺射時間可以設(shè)定并倒計時,能夠根據(jù)工藝需求自動濺射。

●特別說明:根據(jù)用戶不同的工況和工藝要求,公司愿與客戶聯(lián)合研發(fā),共享知識產(chǎn)權(quán),公司致力于工藝與設(shè)備的**匹配,該設(shè)備為公司與電子科技大學(xué)聯(lián)合研發(fā)。


3.png4.png5.png

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