制作方法：
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該產(chǎn)品以工業(yè)氧化鋁為原料，采用復合礦化劑經(jīng)高溫煅燒，然后再經(jīng)過破碎、研磨和溢流分級，得到符合國標、日標磨料級別的粒度分布。
形貌:晶體形貌為片狀或板狀，徑厚比3-9.
規(guī)格:JIS標準800號以細，目前有2500號和3000號樣品提供.
用途:主要用于單晶硅片等半導體的平面研磨拋光、鋁合金或不銹鋼面板的拋光、碳化硅陶瓷增韌、 氧化鋁陶瓷增強。
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