生產(chǎn)能力(kg/h):
-適用物料:
-過濾面積(c㎡):
-工作原理:
其他自動化程度:
其他性能:
其他濾料類型:
其他樣式:
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1.產(chǎn)品介紹
氫能、MPCVD培育鉆石、MOCVD半導體、色譜分析、電子、冶金、石化、光伏等許多行業(yè)都需要高純度的氫氣。在各種氫分離工藝中,膜分離法因設備小巧、操作簡單、能耗低、噪音低等而具有獨特的優(yōu)勢。在各種透氫膜材料中,鈀膜因透氫性好、耐高溫、產(chǎn)氫純度高而*為突出,用于超高純氫的生產(chǎn)已有近五十年歷史。相對于傳統(tǒng)的軋制鈀膜,負載于多孔陶瓷或不銹鋼基材上的鈀膜厚度更薄(5-8 μm),具有強度高、滲透率高、易放大等諸多優(yōu)點?;阝Z膜的氫分離工藝是小規(guī)模制氫系統(tǒng)的**,尤其適用于氫能發(fā)電系統(tǒng)(如甲醇重整反應器+鈀膜純化器+燃料電池)。鈀膜具有高溫穩(wěn)定性,還可用作制氫、加氫、脫氫等反應的膜催化反應器。
我公司以教授和海歸博士為主體、以青年博士、碩士為骨干,建立了專業(yè)化、國際化的研究團隊,主持完成了包括歐盟框架計劃、國家“863”計劃、國家自然科學基金等一系列科研項目,經(jīng)十余年持續(xù)研發(fā),成功開發(fā)了高性能的鈀膜產(chǎn)品,并投入工業(yè)化生產(chǎn)。
2.產(chǎn)品技術參數(shù)
基體材料:多孔陶瓷或多孔不銹鋼
膜管長度:50 – 1200 mm
膜管外徑:10-20 mm 鈀膜厚度:2 – 50 μm 工作溫度:300 – 500℃
原料氣壓力:≤5 MPa 原料氣純度:>20% 輸出氫氣純度≥ 99.9999999%(9N),與原料程度相關
氫氣回收率:>75% H2/N2理想選擇性>100000
膜組件具體尺寸規(guī)格可根據(jù)客戶需求訂制。
3.工作原理
氫氣及其同位素可以很容易地透過鈀膜,而其它任何氣體均被截留,因此鈀膜可用于氫氣純化。氫氣透過鈀膜的方式遵循溶解—擴散機理:
1)氫氣先在鈀膜表面進行化學吸附并解離成氫原子;
2)氫原子溶解于鈀膜,進入鈀或鈀合金的金屬原子晶格間隙;
3)氫原子從鈀膜的一側(cè)擴散到另一側(cè);
4)氫原子從鈀膜表面析出并重新結(jié)合成氫氣分子。
暫無數(shù)據(jù)!